물리/화학적 반응 과정을 통한 고주파 유도에 의해 약 10000도에서 열플라즈마를 발생시켜 나노입자 합성 및 후막합성(막형성)이 가능
특징
원리・특징
고주파 열플라즈마는 대기압 또는 대기압에 가까운 저압 환경에서 동작하여 고주파 전력을 특정 위치에 집중시켜 전자기 유도를 이용하여 다양한 가스로부터 약 10,000도 플라즈마를 자발적으로 발생시킨다.
이 열 플라즈마는 아크 방전의 영역입니다. 재료(분말, 가스, 유체)를 플라즈마에 도입함으로써 나노 입자 합성, 분말 구형화 및 반응, 필름 형성 및 유해 가스의 해리와 같은 응용 분야를 위해 기화, 용융, 해리 및 화학 반응을 유도할 수 있습니다.
직류(DC) 아크 방전에 비해 더 큰 플라즈마 체적을 얻을 수 있습니다.
가스 흐름도 DC 플라즈마보다 좋습니다. 유속이 훨씬 느리기 때문에 원하는 반응을 유도하기 위해 재료를 적절하게 가열하는 것이 가능합니다.
전극이 없기 때문에 전극 재료의 오염이 없어 고순도 가공이 가능합니다.
산화성, 환원성 및 부식성 가스를 포함하여 광범위한 가스를 사용할 수 있습니다.
기계적 분쇄 능력을 뛰어넘는 나노 오더의 미세한 입자 생성 가능
원자, 이온, 들뜬 분자, 라디칼과 같은 고에너지 화학종의 반응을 이용할 수 있다는 것은 새로운 물질과 물질을 만들 수 있는 가능성을 열어줍니다.
장치 개요
고주파 열플라즈마 토치의 고주파 발진기 부하에 최적화된 제어성 및 정합회로와 이상방전 대책 및 업계 최고 수준의 전원 효율 구현
제품 라인업(공칭 출력): 6kW ，35kW ，100kW ，200kW
*300kW 타입도 생산
플라즈마 토치
각 고주파 발진 메커니즘에 대한 전용 플라즈마 매칭이 있습니다.
고밀도 플라즈마 토치 직경 및 형성
XNUMX중 냉각수 배관을 채용, 내부 파이프는 석영관보다 내구성이 높은 세라믹제 ※(특허). 저압에서 대기압까지 장기간 안정적인 운전이 가능합니다.
석영관에 비해 뛰어난 내구성
또한 직류(DC) 방식과 RF(무선 주파수) 방식을 결합한 하이브리드 플라즈마 토치를 개발하고 있습니다. 하이브리드 방법의 특징은 다음과 같습니다.
고주파 플라즈마 위에 직류 플라즈마 제트를 직접 중첩시켜 고주파 플라즈마 어시스트 효과
나노 입자 합성의 경우 DC 플라즈마를 사용하여 원료를 예열할 수 있으므로 보다 효율적인 기화(더 작은 입자)가 가능합니다.
나노 입자 형성, 필름 증착 및 연구 응용 분야를 포함한 응용 분야에 적합한 시스템을 제공합니다.
핫 플라즈마 발생기(구성 요소)도 사용할 수 있습니다.
어플리케이션
애플리케이션 TP시리즈
갤러리 (Gallery)
