기능
TEM / STEM / SEM / EPMA / AUGER를 위한 혁신적인 시편 준비 방법
Ion Slicer는 용매나 화학 물질 없이 박막 시편을 준비할 수 있으며 직사각형 슬라이싱(디스크 연마 또는 딤플 연마 없음) 이외의 시편 사전 처리가 필요하지 않습니다.
Ion Slicer는 기존 준비 도구보다 빠르고 쉽게 박막 시편을 준비합니다. 낮은 에너지, 낮은 각도의 Ar 이온 빔이 시편을 조사하는 동안 얇은 실드 벨트는 Ar 이온 빔의 낮은 각도 조사(0° ~ 6°)를 허용하여 시편에 대한 이온 빔 조사 손상을 크게 줄입니다. 그 결과 부드러운 재료에서도 스퍼터링 아티팩트가 거의 없는 고품질 박막이 생성됩니다. Ion Slicer는 다공성 복합 재료를 포함하여 구성이 다른 시편에서 효율적으로 박막을 준비할 수 있습니다.
주요 특징은 다음과 같습니다 :
고품질 TEM 전처리
빠른 준비
복잡한 전처리 없음
최소한의 표면 손상
제품 사양
EM-09100IS | ||
이온 가속 전압 | 1~8kV | |
경사각 | 최대 6°(0.1°step) | |
빔 직경 | 500μm(FWHM) | |
밀링 속도 | 5m/분(8kV, 실리콘) | |
빔 조사용 가스 | 아르곤 | |
권장 표본 크기 | 2.8mm(길이) 0.5mm(너비) 0.1mm(두께) | |
압력 측정 | 페닝 게이지 | |
주요 대피 시스템 | 터보 분자 펌프 | |
CCD 카메라 | 내장 | |
치수 및 무게 | 메인 콘솔 | 500mm(W) ×600mm(D) ×542mm(H), 63kg |
로터리 펌프 | 150mm(W) ×427mm(D) ×230.5mm(H), 16kg | |
LCD 모니터 | 326mm(W) ×173mm(D) ×380mm(H), 3.7kg |
설치 요구 사항
EM-09100IS | |
출력 | 단상, AC100~120V, 50/60Hz, 500~600VA |
접지 터미널 | 100옴 이하 |
아르곤 가스 | 압력: 0.15±0.05MPa(1.0 ∼ 2.0kg/cm2)
아르곤 가스 유량: 약 0.2ccm 순도: 99.9999% 이상 호스 조인트:JIS B0203 Rc1/8 * 아르곤가스(배관 및 가스용기 포함) 및 레귤레이터는 고객님께서 준비하셔야 합니다. |
온도 | 20~25℃(변동: 1℃/hor 이하) |
습기 | 60% 이하 |
장비를 장착하기 위한 테이블을 제공하십시오.
사양은 사전 통지없이 변경 될 수 있습니다.