SEM 관찰 및 결정 방향 분석에 가장 적합한 이온 빔을 사용한 단면 준비를 위한 표준 장치입니다.
특징
IB-09010CP는 기계적 연마 방법을 사용하여 다루기 어려웠던 시편의 깨끗한 단면을 생산할 수 있습니다. 이 장치는 경질 물질과 연질 물질이 혼합된 복합 재료의 단면 준비에 특히 적합합니다.
IB-09010CP는 단면 가공을 수행하는 이온 밀링 장치입니다.
대기 시간 없이 자동으로 처리를 시작하는 기능이 포함되어 있습니다. 이러한 방식으로 공정을 최적의 진공 속도로 시작할 수 있습니다.
8μm/h의 높은 처리 속도를 제공하는 옵션인 300kV 전원 공급 장치가 있습니다(실리콘 기판 환산 기준, 발생량: 100μm, 평균 2시간).
터치패널로 간편한 조작
제품 사양
이온 가속 전압 | 2~6kV(8kV:옵션) |
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이온빔 직경 | 500μm 이상(전폭 반치) |
밀링 속도 | 100μm/h(2h 평균, 가속 전압: 6kV, Si 환산값, 가장자리에서 100μm 이하) |
최대 표본 크기 | 11mm(너비) 10mm(세로) 2mm(세로)
20mm(W)×10mm(L)×5mm(T): 옵션 |
시편 이동 범위 | X축 10mm Y축 3mm |
견본 회전 각도 조정 범위 | ± 5 ° |
시편 밀링 스윙 각도 | ±30°(특허출원) |
조작 | 터치 패널 |
가스 | 아르곤(매스 플로우 컨트롤러에 의해 제어되는 유량) |
압력 측정 | 페닝 게이지 |
메인 진공 펌프 | 터보 분자 펌프 |
배압 펌프 | 로터리 펌프 |
치수 및 질량 | 기본단위 : 545mm(W)×550mm(D)×420mm(H), 64kg
로터리 펌프: 150mm(W)×427mm(D)×230mm(H), 16kg |
선택적 첨부 파일 | 가속 전압 8kV 단위
시편 회전 홀더 높은 위치 정확도 CCD 카메라 대형 표본 홀더 |
설치 요구 사항
강력함 | 단상 AC 100~120V 10%, 50/60Hz, 0.5~0.6kVA |
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접지 | 100Ω 이하 |
아르곤 가스 | 압력: 0.15±0.05MPa(1.0~2.0kg/cm2)
순도: 99.9999% 이상 (아르곤가스, 가스실린더, 레귤레이터는 고객님께서 준비하셔야 합니다.) 호스 조인트 JIS B0203, Rc1/8 |
실온 | 15에서 25 ℃ |
습기 | 60% 이하 |
사양은 사전 통지없이 변경 될 수 있습니다.
어플리케이션
출원 IB-09010CP
SEM 이미징을 위한 Ar 넓은 이온 빔에 의한 우레탄 고무의 단면
SEM용 골조직의 고품질 단면 준비: 생물학적 표본에 단면 연마제 적용