새로운 고속 및 미세 밀링 모드는 고품질 단면의 처리량을 훨씬 더 높입니다.
간헐적 밀링 모드가 표준이며 열 손상에 취약한 표본의 취급을 단순화합니다.
다양한 재료의 가공을 용이하게 하기 위한 개선 사항은 다음과 같습니다.
특징
단면 연마기(CP)의 진화
새로운 이온 소스로 고속 처리 달성
미세 밀링 및 간헐 모드로 시편 손상 감소
"빠른 시작" 기능으로 전체 프로세스 시간 단축
대전 방지 IN-situ 코팅 기능(옵션)
IB-19500 특징
★ 새로운 고속 이온 소스
500μm/h 제공(8kV/2시간 평균)
8kV, 2시간 처리 결과(Si)
★선택 가능한 마무리
고속 가공 후 미세 밀링 매개변수를 설정하여
단면에 대한 이온 손상을 줄일 수 있습니다.
★간헐 모드로 데미지 감소
간헐 밀링 모드가 표준이므로 시편의 열 손상을 줄일 수 있습니다.
간헐 설정은 1초 단위로 설정할 수 있습니다.
