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처리 중 액체 질소로 시편을 냉각하여 열 손상을 줄일 수 있습니다.
액체 질소의 소비를 억제하도록 설계되어 냉각 시간이 길어집니다.
액체 질소에 담그면서 시편을 급속 냉각합니다. 실온으로 돌아갑니다. 부품을 분리할 수 있도록 설계되었습니다.
샘플을 공기에 노출시키지 않고 연마에서 관찰까지의 과정을 수행할 수 있는 메커니즘을 포함합니다.

특징

IB-19520CCP의 특징

냉각 효과

견본: 직류 전기를 통한 철 강철

일반 밀링(냉각 없음)
가속 전압 4kV

냉각 밀링(홀더 온도 -120°C)
가속 전압 4kV

  • 일반 밀링(냉각하지 않음)의 경우 철과 아연 사이의 경계에 가시적인 보이드가 있으며 이는 냉각된 상태에서는 보이지 않습니다.

냉각을 위한 온도 조절 메커니즘(옵션) 사용

시편: Si 웨이퍼 결합 표면

  • 일반 밀링(냉각하지 않음)의 경우 열 손상으로 인해 결합제가 변형되고 큰 보이드가 나타납니다. -150℃에서는 냉각이 과도하여 본드 경계와 Si 웨이퍼의 둔한 면에 보이드가 보입니다.

냉각 온도 제어로 준비된 샘플에는 공극이 없습니다.

간헐 공정, 냉각 및 온도 제어 기능을 갖춘 냉각으로 다양한 작업물 처리

프로세스 모니터 기능

CCD 카메라로 단면 밀링 상태를 실시간으로 모니터링할 수 있습니다.
그리고 배율은 다양할 수 있습니다.

정전기 방지 코팅 기능

선택적 이온 빔 스퍼터링 기능을 사용할 수 있습니다.
입도가 좋은 얇은 코팅을 만듭니다.
EBSD와 같이 패턴 인식이 필요한 경우에 이상적입니다.

평면 이온 밀링 홀더

이온빔은 시료에 대해 낮은 각도로 조사되어 표면층의 오염을 제거하고 표면을 매끄럽게 합니다.
선택적 에칭에도 이상적입니다.

단면 준비 키트

샘플을 회전시키면서 이온빔 밀링을 수행하기 위한 키트입니다.
이 키트는 Planar 이온 밀링 홀더와 함께 사용됩니다. 
다공성 물질, 분말 및 섬유와 같이 밀링 시 줄무늬가 생기기 쉬운 샘플의 단면을 생성할 수 있습니다.

제품 사양

이온 가속 전압 2 ~ 8kV
이온빔 폭 500μm(반치 전폭)
밀링 속도 500μm/h
(가속 전압: 2kV, 시편: Si, 가장자리에서 8μm에서 100시간 동안의 평균값)
시편 홀더 최종 냉각 온도 -120°C 이하
시편 냉각 유지 시간 8 시간 이상
냉각수 탱크 용량 약 1L
최대 표본 크기 크기: 11mm(W)×8mm(D)×3mm(H)
스테이지 이동 범위 X축, ±6mm, Y축, ±2.5mm
시편 고정 방법 클리핑
시편 밀링 스윙 각도 ±30°(특허 US4557130)
카메라 배율 모니터링 약 ×20~100(6.5인치 디스플레이)
공기 차단 시스템 이송 용기
공기 격리 방법 챔버 내부를 가스 환경으로 설정하고 이송 용기를 캡으로 덮고 시편을 용기에 캡슐화합니다.
조작 터치 패널, 6.5인치 디스플레이
가스 아르곤 가스(매스 플로우 컨트롤러로 제어되는 유량)
압력계 펜닝 진공 게이지
메인 대피 펌프 터보 분자 펌프
보조 대피 펌프 로터리 펌프
치수 및 질량 본체: 약. 670mm(W) × 720mm(D) × 530mm(H) , 약. 73㎏
로터리 펌프: 약. 120mm(W) × 288.5mm(D) × 163mm(H), 약. 9.3㎏
선택권 대형 표본 회전 홀더(IB‐11550LSRH)
마운팅 베이스 표본 홀더(IB-11560MBSH)
대형 표본 홀더(IB-11570LSH)
카본 코팅 홀더(IB-12510CCH)

설치 요구 사항

전원 공급 장치 단상 100~120V±10%, 50/60Hz, 0.6KVA
접지 터미널 100Ω 이하
아르곤 가스 압력; 0.15±0.05MPa(1.0~2.0㎏f/cm2), 순도: 99.9999% 이상, (아르곤 가스, 실린더 및 레귤레이터는 고객이 준비해야 함) 호스 커넥터; JISB0203Rc1/4
실온 15 ~ 25 ° C
습기 60% 이하
  • 사양은 사전 통지없이 변경 될 수 있습니다.

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어플리케이션

애플리케이션 IB-19520CCP

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