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JIB-4000PLUS
집중 이온 빔
밀링 및 이미징 시스템

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JIB-4000PLUS 집속 이온빔 밀링 및 이미징 시스템

JIB-4000PLUS는 고성능 이온 광학 컬럼을 특징으로 하는 집중 이온 빔 밀링 및 이미징 시스템(단일 빔 FIB 시스템)입니다. 가속된 Ga(갈륨) 이온 빔은 시편 표면의 SIM 이미지 관찰, 밀링 및 탄소 또는 텅스텐과 같은 물질의 증착을 가능하게 하기 위해 시편에 초점을 맞춥니다. 이 시스템은 또한 TEM 이미징을 위한 박막 시편과 시편 내부를 관찰하기 위한 단면 시편을 준비할 수 있습니다.
또한 JIB-4000PLUS에는 3D 관찰 기능과 자동 TEM 시편 준비 기능이 장착될 수 있습니다. 따라서 시스템은 표본 준비에 대한 다양한 요구 사항을 충족합니다.

특징

고출력 FIB 컬럼

JIB-4000PLUS는 최대 이온 빔 전류가 60nA인 고전력 FIB 컬럼을 통합합니다. 또한 시스템은 시료 준비 시간을 단축하고 시료 준비 영역을 넓히기 위해 빔 전류를 최대 90nA(옵션)까지 증가시킬 수 있습니다. JIB-4000PLUS를 사용하면 직경이 100μm를 초과하는 단면을 단시간에 준비할 수 있습니다.

그림 1 솔더 범프(직경 100μm)의 단면 시편 준비 및 관찰.

사용자 친화적인 FIB

JIB-4000PLUS는 High-Power FIB 컬럼의 뛰어난 조작성을 제공합니다. 시스템의 디자인 컨셉은 사용자 친화적이며, 외관은 물론 GUI는 초보 사용자도 쉽게 시스템을 조작할 수 있도록 설계되었습니다. 업계 최소 클래스인 시스템의 소형화는 설치 장소에 대한 더 넓은 범위의 선택을 위한 작은 설치 공간을 달성합니다.

트윈 스테이지

JIB-4000PLUS의 표준 구성에는 벌크 시편 모터 스테이지가 포함됩니다. TEM 칩 온 홀더를 직접 삽입할 수 있는 사이드 엔트리 고니오미터 스테이지를 추가하는 것도 가능합니다. 사이드 엔트리 고니오미터 스테이지는 JEOL TEM에 사용된 것과 동일하여 FIB 밀링과 TEM 관찰 사이의 교대를 용이하게 합니다.

3차원 관찰 기능

JIB-4000PLUS에는 3D 관찰을 위한 직렬 단면 이미징 기능이 있습니다.
JIB-4000PLUS는 단일 빔 FIB 시스템이지만 SIM 이미지를 사용하여 3D 관찰이 가능합니다. 옵션인 3D 재구성 소프트웨어를 사용하면 획득한 여러 단면 이미지의 3D 재구성이 가능하여 다양한 각도에서 3D 이미지를 표시할 수 있습니다.

Fig.2 CCD 이미지 센서의 3D 재구성 이미지

자동 TEM 시편 준비 기능

JIB-4000PLUS는 자동 TEM 시편 준비 기능(옵션)인 "STEMPLING"을 사용할 수 있습니다.
이 기능으로 인해 검체 준비에 고도의 전문 기술이 필요하지 않아 누구나 쉽게 검체를 준비할 수 있습니다. 이 기능은 또한 여러 검체의 자동 준비를 가능하게 하므로, 많은 양의 검체를 준비하기 위해 밤새 무인 작동이 가능합니다.

Fig.3 자동 TEM 시편 준비 기능(STEMPLING)의 적용 예. 시편: Si 웨이퍼

풍부한 첨부 파일

JIB-4000PLUS는 회로 수정에 유용한 CAD 내비게이션 시스템과 특징적인 형상으로 시편을 밀링하는 데 효과적인 벡터 스캔 시스템을 포함하여 시스템 작동을 지원하는 다양한 부착물을 수용합니다. JIB-4000PLUS에 적절한 부착물을 추가함으로써 시스템은 표본 준비 이외의 애플리케이션을 지원할 수 있습니다.

제품 사양

FIB

이온 소스 Ga 액체 금속 이온 소스
가속 전압 1~30kV(5단계)
확대 ×60(필드 검색용)
×200 ~ ×300,000
이미지 해상도 5nm(30kV에서)
최대 빔 전류 60nA(30kV에서)
90nA(30kV에서)*옵션
이동식 조리개 12단(모터 구동)
밀링에 의한 형상 가공 사각형, 선 및 점

표본 단계

표본 단계 벌크 시편 5축 고니오미터 스테이지
이동 범위 엑스: ±11mm
Y: ±15mm
Z: 0.5~-23mm
T: -5 ~ +60°
오른쪽: 360°
최대 표본 크기 직경 28mm (높이 13mm)
50 mm 직경 (높이 2mm)

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애플리케이션 JIB-4000PLUS

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