복잡한 나노 구조를 특징으로 하는 신소재 개발의 발전으로 인해 FIB-SEM 장비에 대한 탁월한 해상도, 정확도 및 처리량에 대한 요구가 증가하고 있습니다. 이에 대응하여 JEOL은 다양한 표본의 형태학적 관찰, 원소 및 결정학적 분석에 사용할 JIB-4700F 다중 빔 시스템을 개발했습니다.
특징
JIB-4700F는 하이브리드 원추형 대물 렌즈, GENTLEBEAM™(GB) 모드 및 렌즈 내 감지기 시스템을 갖추고 있어 1.6kV의 낮은 가속 전압에서 1nm의 보장된 해상도를 제공합니다. 최대 프로브 전류 300nA의 전자빔을 생성하는 "렌즈 내 쇼트키 방출 전자총"을 사용하여 이 새로 개발된 장비는 고해상도 관찰 및 빠른 분석이 가능합니다. FIB 컬럼의 경우 최대 90nA의 최대 프로브 전류의 고전류 밀도 Ga 이온 빔이 빠른 이온 밀링 및 시료 처리에 사용됩니다.
FIB에 의한 고속 단면 처리와 동시에 에너지 분산형 X선 분광법(EDS) 및 전자 후방 산란 회절(EBSD)을 활용하여 고해상도 SEM 관찰 및 빠른 분석을 수행할 수 있습니다. 또한 단면 처리에서 일정한 간격으로 SEM 이미지를 자동으로 캡처하는 4700차원 분석 기능이 JIB-XNUMXF의 표준 기능 중 하나로 제공됩니다.
고해상도 SEM 관찰
1.6kV의 낮은 가속 전압에서 1nm의 보장된 해상도는 자기/정전기 하이브리드 원추형 대물 렌즈, GB 모드 및 렌즈 내 검출기에 의해 전달됩니다.
빠른 분석
In-lens Schottky-emission 전자총과 개구각 제어 렌즈의 조합으로 큰 프로브 전류 하에서 분석 시 고해상도를 유지할 수 있어 빠른 분석이 가능합니다.
고속 처리
고출력 Ga 이온 빔 컬럼으로 시료를 신속하게 처리할 수 있습니다.
향상된 감지 시스템
새로 개발된 인렌즈 디텍터를 포함하는 동시 감지 시스템을 통해 최대 4개의 디텍터에서 이미지를 실시간으로 관찰할 수 있습니다.
다재
JIB-4700F는 EDS, EBSD, 극저온 이송 시스템, 냉각 단계 및 공기 차단 이송 시스템 등을 포함한 다양한 옵션 부착물과 호환됩니다.
XNUMX차원 관찰/분석
고해상도 SEM과 적절한 선택적 분석 장치의 조합으로 이미지 및 분석 데이터의 XNUMX차원 시각화가 가능합니다.
스테이지 연동 기능
대기 픽업 시스템(옵션) 및 스테이지 연결 기능으로 TEM(투과 전자 현미경) 시편을 쉽게 후퇴할 수 있습니다.
사진 오버레이 시스템
대기 픽업 시스템의 광학 현미경 이미지를 FIB 이미지에 오버레이하면 FIB 처리 지점을 쉽게 식별할 수 있습니다.
(링크)
제품 사양
SEM | |
---|---|
착륙 전압 | 0.1 ~ 30.0kV |
이미지 해상도(최적 WD에서) | 1.2nm(15kV, GB 모드)
1.6nm(1kV, GB 모드) |
확대 | x20에서 1,000,000
(LDF 모드 사용 가능) |
프로브 전류 | 1pA ~ 300nA |
감지기(*옵션) | LED, UED, USD*, BED*, TED*, EDS* |
표본 단계 | 전산화된 6축 고니오미터 스테이지
X: 50mm, Y: 50mm, Z: 1.5 ~ 40mm, R: 360°, T: -5 ~ 70°, FZ: -3.0 ~ +3.0mm |
FIB | |
가속 전압 | 1 ~ 30kV |
이미지 해상도 | 4.0nm(30kV) |
확대 | x50에서 1,000,000
(50kV 이하에서 x90~15 획득) |
프로브 전류 | 1pA ~ 90nA, 13단계 |
밀링에 의한 형상 가공 | 구형, 선, 자리, 원, 비트맵 |
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어플리케이션
애플리케이션 JIB-4700F
생체 재료용 전자 현미경의 3D 이미징 방법 비교예:(300KB)
갤러리 (Gallery)
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