닫기

지역 사이트 선택

닫기

복잡한 나노 구조를 특징으로 하는 신소재 개발의 발전으로 인해 FIB-SEM 장비에 대한 탁월한 해상도, 정확도 및 처리량에 대한 요구가 증가하고 있습니다. 이에 대응하여 JEOL은 다양한 표본의 형태학적 관찰, 원소 및 결정학적 분석에 사용할 JIB-4700F 다중 빔 시스템을 개발했습니다.

특징

JIB-4700F는 하이브리드 원추형 대물 렌즈, GENTLEBEAM™(GB) 모드 및 렌즈 내 감지기 시스템을 갖추고 있어 1.6kV의 낮은 가속 전압에서 1nm의 보장된 해상도를 제공합니다. 최대 프로브 전류 300nA의 전자빔을 생성하는 "렌즈 내 쇼트키 방출 전자총"을 사용하여 이 새로 개발된 장비는 고해상도 관찰 및 빠른 분석이 가능합니다. FIB 컬럼의 경우 최대 90nA의 최대 프로브 전류의 고전류 밀도 Ga 이온 빔이 빠른 이온 밀링 및 시료 처리에 사용됩니다.
FIB에 의한 고속 단면 처리와 동시에 에너지 분산형 X선 분광법(EDS) 및 전자 후방 산란 회절(EBSD)을 활용하여 고해상도 SEM 관찰 및 빠른 분석을 수행할 수 있습니다. 또한 단면 처리에서 일정한 간격으로 SEM 이미지를 자동으로 캡처하는 4700차원 분석 기능이 JIB-XNUMXF의 표준 기능 중 하나로 제공됩니다. 

고해상도 SEM 관찰

1.6kV의 낮은 가속 전압에서 1nm의 보장된 해상도는 자기/정전기 하이브리드 원추형 대물 렌즈, GB 모드 및 렌즈 내 검출기에 의해 전달됩니다.

빠른 분석

In-lens Schottky-emission 전자총과 개구각 제어 렌즈의 조합으로 큰 프로브 전류 하에서 분석 시 고해상도를 유지할 수 있어 빠른 분석이 가능합니다.

고속 처리

고출력 Ga 이온 빔 컬럼으로 시료를 신속하게 처리할 수 있습니다.

향상된 감지 시스템

새로 개발된 인렌즈 디텍터를 포함하는 동시 감지 시스템을 통해 최대 4개의 디텍터에서 이미지를 실시간으로 관찰할 수 있습니다.

다재

JIB-4700F는 EDS, EBSD, 극저온 이송 시스템, 냉각 단계 및 공기 차단 이송 시스템 등을 포함한 다양한 옵션 부착물과 호환됩니다.

XNUMX차원 관찰/분석

고해상도 SEM과 적절한 선택적 분석 장치의 조합으로 이미지 및 분석 데이터의 XNUMX차원 시각화가 가능합니다.

스테이지 연동 기능

대기 픽업 시스템(옵션) 및 스테이지 연결 기능으로 TEM(투과 전자 현미경) 시편을 쉽게 후퇴할 수 있습니다.

사진 오버레이 시스템

대기 픽업 시스템의 광학 현미경 이미지를 FIB 이미지에 오버레이하면 FIB 처리 지점을 쉽게 식별할 수 있습니다.

(링크)

제품 사양

SEM
착륙 전압 0.1 ~ 30.0kV
이미지 해상도(최적 WD에서) 1.2nm(15kV, GB 모드)
1.6nm(1kV, GB 모드)
확대 x20에서 1,000,000
(LDF 모드 사용 가능)
프로브 전류 1pA ~ 300nA
감지기(*옵션) LED, UED, USD*, BED*, TED*, EDS*
표본 단계 전산화된 6축 고니오미터 스테이지
X: 50mm, Y: 50mm, Z: 1.5 ~ 40mm, R: 360°, T: -5 ~ 70°,
FZ: -3.0 ~ +3.0mm
FIB
가속 전압 1 ~ 30kV
이미지 해상도 4.0nm(30kV)
확대 x50에서 1,000,000
(50kV 이하에서 x90~15 획득)
프로브 전류 1pA ~ 90nA, 13단계
밀링에 의한 형상 가공 구형, 선, 자리, 원, 비트맵

카탈로그 다운로드

어플리케이션

애플리케이션 JIB-4700F

갤러리 (Gallery)

관련 상품

더 많은 정보

과학 기초

메커니즘에 대한 쉬운 설명과
JEOL 제품의 응용

닫기
주의

귀하는 의료 전문가 또는 의료에 종사하는 직원입니까?

아니

이 페이지는 일반 대중에게 제품에 대한 정보를 제공하기 위한 것이 아닙니다.

Contacts

JEOL은 고객이 안심하고 제품을 사용할 수 있도록 다양한 지원 서비스를 제공합니다.
Please feel free to contact us.