특징
JSM-7800FPRIME은 새로 개발된 초고해상도 Gentle Beam(GBSH)을 탑재하여 세계 최고의 해상도를 구현합니다. 또한 In-lens Schottky Plus 총의 최대 프로브 전류가 200nA에서 500nA로 증가했습니다.
렌즈 내 Schottky Plus 전계 방출 전자총
전자총과 저수차 콘덴서 렌즈의 조합을 최적화하여 고휘도를 실현했습니다. 총에서 발생하는 전자를 효율적으로 모아 낮은 가속 전압에서도 수 pA~수십 nA의 프로브 전류를 얻을 수 있어 나노에 대한 고속 요소 매핑 및 EBSD는 물론 고해상도 관찰이 가능합니다. - 가장 작은 대물 조리개를 유지하면서 스케일.
GBSH(Gentle Beam Super High Resolution)를 이용한 표면 관찰
기존 *Gentle Beam(GB)은 시편에 더 높은 전압을 적용하도록 개선되어 낮은 가속 전압으로 초고해상도 이미지를 제공합니다. GBSH를 사용하면 시편 표면 관찰에서 나노 스케일 요소 분석에 이르기까지 응용 분야에 가장 적합한 가속 전압을 선택할 수 있습니다.
Gentle Beam(GB)은 입사 전자의 속도를 줄이고 방출 전자의 속도를 가속하기 위해 시편에 바이어스 전압을 인가하는 기술입니다.
Gentle Beam을 사용한 상단 표면 이미징
시편(GB)에 바이어스 전압을 인가함으로써 입사 전자의 속도는 감소하고 방출된 전자의 속도는 증가합니다. 이를 통해 낮은 표본 착지 전압에서도 신호 대 잡음비가 좋은 고해상도 이미지를 얻을 수 있습니다. 더 높은 바이어스 전압을 인가할 수 있는 GBSH 모드를 사용하면 수십 eV의 랜딩 전압에서도 고해상도 관찰이 가능하다.
다중 검출기를 이용한 모든 정보 수집
JSM-7800F는 상부 전자 검출기(UED), 상부 4차 전자 검출기(USD), 후방 산란 전자 검출기(BED) 및 하부 전자 검출기(LED)를 포함한 3가지 유형의 검출기를 통합합니다. UED의 경우 필터 전압에 따라 XNUMX차 전자 및 후방 산란 전자 수집이 변경될 수 있으므로 이미지 획득을 위한 전자 에너지를 선택할 수 있습니다. USD는 필터 그리드에 의해 거부되는 저에너지 전자를 감지합니다. BED를 사용하면 높거나 낮은 각도의 후방 산란 전자를 감지하여 채널링 콘트라스트를 명확하게 관찰할 수 있습니다. LED는 조명 효과에서 얻은 표면 거칠기 정보를 포함하여 XNUMX차원 모양의 이미지를 획득할 수 있습니다.
제품 사양
| 분해능 | 0.7nm(15kV)
0.7nm(1kV) 3.0nm(5kV, WD10mm, 5nA) |
|---|---|
| 확대 | x25 ~ x1,000,000(SEM) |
| 가속 전압 | 0.01 kV의에 30 kV의 |
| 프로브 전류 | 수 pA ~ 500nA |
| 조리개 각도 최적화 렌즈 | 내장 |
| 검출기 | 상부 전자 검출기(UED)
하부 전자 검출기(LED) |
| 에너지 필터 | UED 필터 전압 변경 기능 내장 |
| 젠틀빔 | 내장 |
| 이미지 디스플레이 | 이미지 표시 영역 1,280 x 960 픽셀, 800 x 600 픽셀 |
| 표본 교환실 | 스탠다드
시편 교환 챔버 TYPE2A |
| 표본 단계 | 5축 모터 구동 스테이지
완전한 eucentric goniometer 단계 |
| XY | X:70mm, Y:50mm |
| 기울이다 | -5 ~ + 70 ° |
| 회전 | 360 ° |
| WD | 2mm에서 25mm |
| 피난 시스템 | XNUMX개의 SIP, TMP, RP |
| 에코 디자인 | 정상 작동 시: 1.1kVA
슬립 모드 시 : 0.8kVA |
주요 옵션
에너지 분산형 X선 분광기(EDS)
파장 분산 X선 분광기(WDS)
전자 후방 산란 회절(EBSD) 시스템
CLD(음극 발광 검출기)
어플리케이션
애플리케이션 JSM-7800FPRIME
ClairScope 및 SpiralTOF를 사용한 박테리아의 신속한 특성화
갤러리 (Gallery)
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miXcroscope™ 연결 광학 및 주사 전자 현미경 시스템
이제 광학 현미경과 주사형 전자 현미경 모두에 동일한 시편 홀더를 사용할 수 있습니다. 그 결과 전용 소프트웨어로 스테이지 정보를 관리함으로써 광학현미경으로 관찰한 위치를 기록하고 주사형 전자현미경으로 같은 영역을 더 확대하여 미세한 구조를 더 높은 배율로 관찰할 수 있습니다. 더 높은 해상도. 광학 현미경으로 찾은 관찰 대상은 대상을 다시 찾을 필요 없이 주사형 전자 현미경으로 원활하게 관찰할 수 있습니다. 이제 광학현미경 이미지와 주사형 전자현미경 이미지를 부드럽고 쉽게 비교 검증할 수 있게 되었습니다.
