기능
JSM-IT800은 고해상도 이미징과 빠른 원소 매핑을 위한 당사의 "In-lens Schottky Plus 전계 방출 전자총"과 혁신적인 전자 광학 제어 시스템인 "Neo Engine" 및 원활한 GUI "SEM Center" 시스템을 통합합니다. 공통 플랫폼으로 완전히 내장된 JEOL 에너지 분산형 X선 분광계(EDS)를 사용한 빠른 원소 매핑용.
JSM-IT800은 SEM의 대물렌즈를 모듈로 교체할 수 있어 다양한 사용자 요구 사항을 충족시키기 위해 다양한 버전을 제공합니다. JSM-IT800에서는 다양한 대물 렌즈와 함께 XNUMX가지 버전을 사용할 수 있습니다. 범용 FE-SEM인 하이브리드 렌즈 버전(HL); 더 높은 해상도의 관찰 및 분석을 가능하게 하는 슈퍼 하이브리드 렌즈 버전(SHL/SHL, 다른 기능을 가진 두 가지 버전); 그리고 새롭게 개발된 세미 인 렌즈 버전(i/is, 기능이 다른 두 가지 버전)으로 반도체 소자 관찰에 적합합니다.
또한 JSM-IT800은 새로운 SBED(Scintillator Backscattered Electron Detector) 및 VBED(다용도 후방 산란 전자 검출기)를 장착할 수도 있습니다. SBED는 높은 응답성으로 이미지를 획득하고 낮은 가속 전압에서도 선명한 재료 대비를 생성하는 반면 VBED는 3D, 지형 및 재료 대비의 이미지를 얻는 데 도움이 됩니다. 따라서 JSM-IT800은 사용자가 얻을 수 없었던 정보를 얻고 측정 문제를 해결할 수 있도록 도와줍니다.
렌즈 내 쇼트키 플러스 FEG(Field Emission Election Gun)
통합 In-Lens Schottky Plus와 저수차 집광 렌즈가 높은 빔 밝기를 구현합니다. 낮은 가속 전압에서도 충분한 프로브 전류(100nA@5kV)를 사용할 수 있습니다. 이를 통해 사용자는 최소한의 SEM 매개변수 조정으로 고해상도 관찰, 고속 원소 매핑, EBSD 분석 및 Soft X-ray 분석을 수행할 수 있습니다.
네오엔진(신전자광학엔진)
JEOL 전자광학 기술의 걸작인 차세대 전자광학제어시스템을 탑재했습니다. 다양한 현미경 파라미터를 조정하면서 안정적인 관찰이 가능합니다. 또한, 시스템은 추가적인 사용 편의성을 위해 향상된 자동 기능을 제공합니다.
AFS·ACB
자동 초점 조정 전
자동 초점 조정 후
표본: 탄소 위의 Sn 나노 입자
가속 전압: 15kV, WD: 2mm, 관찰 모드: BD, 검출기: UED, 배율: x200,000
SEM센터·EDS 통합
현미경 GUI "SEM Center"와 JEOL EDS의 완전한 통합은 차세대 SEM 활용을 가져왔습니다. 또한 JSM-IT800에는 초보자에게 SEM 조작 방법을 지원하는 Smile Navi(옵션), LIVE-AI(인공 지능) 필터 Live-AI(Live Image Visual Enhancer-AI:LIVE-AI)(옵션)가 포함되어 있습니다. 라이브 이미지를 쉽게 볼 수 있는 기능과 빠른 보고서 생성을 위한 SMILE VIEW™ Lab을 제공합니다.
스마일뷰™ 랩
SMILENAVI *옵션
SMILENAVI는 기초 SEM 작업을 원활하게 할 수 있도록 초보자를 위해 설계된 보조 도구입니다. 작업자가 SMILENAVI 흐름도에 표시된 대로 적절한 버튼을 클릭하면 SEM GUI가 작업자 안내를 위해 클릭 작업에 연결됩니다. GUI는 작동 단계와 버튼 위치를 표시하므로 작업자는 SMILENAVI를 사용하지 않고도 SEM을 작동할 수 있습니다.
LIVE-AI 필터(Live Image Visual Enhancer-AI:LIVE-AI)
AI(인공 지능) 기능을 활용하여 LIVE-AI 필터를 통합하여 보다 높은 품질의 라이브 이미지를 제공합니다. 이미지 통합 처리와 달리 이 새로운 필터는 잔상 없이 매끄럽게 움직이는 라이브 이미지를 표시할 수 있습니다. 이 독특한 기능은 관찰 영역을 빠르게 검색하고 초점을 맞추고 낙인을 조정하는 데 매우 효과적입니다.
라이브 이미지 비교
하이브리드 렌즈 버전(HL, 하이브리드 렌즈) /
슈퍼 하이브리드 렌즈 버전(SHL; 슈퍼 하이브리드 렌즈) /
세미 인 렌즈 버전
JSM-IT800 시리즈는 사용자의 목적에 맞는 대물렌즈를 선택할 수 있습니다.
HL 버전 및 SHL 버전(SHL 버전 포함)에는 다목적 아웃 렌즈에서 개발된 전자기/정전기장 중첩 대물 렌즈가 장착되어 있습니다.
금속에서 나노 물질까지 다양한 시편의 고해상도 관찰 및 분석이 가능합니다. 특히 자성체 관찰 및 EBSD 측정 등의 분석에 유용합니다.
i 버전과 is 버전에는 세미 인 렌즈가 장착되어 있습니다. 반도체 소자의 고장 분석에 필요한 경사 및 단면 시료의 고해상도 관찰 및 분석에 최적입니다.
또한 상부 UID(In-Lens Detector)를 사용하여 잠재적인 콘트라스트 관찰에 유용합니다.
| 아웃 렌즈 유형 | 전자기/정전기장 중첩 대물렌즈 | 세미 인 렌즈 |
|
높은 다양성 시스템: JSM-IT700HR |
다용성 및 고해상도 시스템: JSM-IT800HL/SHL |
고해상도 시스템: JSM-IT800i/is |
UHD；상부 하이브리드 감지기
SHL 버전 대물렌즈에 새롭게 탑재된 검출기 UHD는 시료에서 발생하는 전자를 검출하는데 매우 효율적이며, S/N 비율이 향상된 영상 획득이 가능합니다.
UHD(상부 하이브리드 감지기)
SHL 관찰 예
표본: 알루미늄 산화물 입자
가속 전압: 0.5kV, 관찰 모드: BD, 검출기: UHD
입자 표면의 놀라운 계단 구조를 관찰할 수 있습니다. 단일 nm 단계는 입자 표면에서 명확하게 관찰됩니다.
※ SHL 버전으로 획득.
표본: 알루미늄 베마이트
가속 전압: 0.3kV, 관찰 모드: BD, 검출기: UHD
알루미늄 베마이트 표면에서 10 nm 미만의 얇은 나노시트 구조를 명확하게 관찰할 수 있다.
SHL 버전에서 획득했습니다.
표본: 셀룰로오스 나노섬유(CNF)
가속 전압: 0.2kV, 관찰 모드: BD, 검출기: UHD+UED(신호 추가)
표본 제공: 야노 히로유키(일본 교토대학 지속가능인권연구소)
시료는 유기섬유이지만 유기섬유의 빔 손상을 조절하여 관찰도 가능하다.
SHL 버전에서 획득했습니다.
시편: IC 칩 단면(표면 에칭, 오스뮴 코팅)
가속 전압: 5.0kV(BD 모드 제외), 관찰 모드: SHL, 감지기: UHD, UED(BSE 모드)
SE 이미지는 UHD를 사용하여 얻을 수 있습니다. UED를 사용하여 BSE 이미지를 얻을 수 있습니다.
HL 관찰 예
표본: 탄소 위의 백금 나노 입자
가속 전압: 20kV, WD: 2mm, 관찰 모드: BD, 검출기: UED
표본: 제올라이트
가속 전압: 1kV, WD: 3mm, 관찰 모드: STD, 검출기: SED
표본: 씰 테이프
가속 전압: 0.5kV, WD: 2mm, 관찰 모드: BD, 검출기: UED
표본: 전등 리드
가속 전압: 10kV, WD: 6mm, 관찰 모드: LV, 검출기: LVBED
나는 관찰 예
광촉매 입자의 XNUMX차 전자(SE) 이미지
이 이미지는 JSM-IT800(i)의 UED 감지기를 사용하여 얻은 것입니다.
표본 제공: 일본 도쿄대학 도멘 카즈나리 교수.
이 광촉매는 100%에 가까운 물 분해 반응의 양자 효율을 나타냅니다. 고해상도 SE 이미지는 크기가 10nm 미만인 조촉매 입자가 수소 및 산소 발생 반응을 촉진하기 위해 입방체 입자의 {100} 결정면에 우선적으로 증착됨을 명확하게 보여줍니다.
참조
T. Takata et. al., "거의 XNUMX에 가까운 양자 효율로 분해되는 광촉매 물", 자연 , 581, 411-414, 2020.
SRAM 부품 구성 대비 이미지 / 전압 대비 이미지 / 지형 대비 이미지
관찰 조건: 착륙 전압 1kV, WD 8mm, SIL 모드 및 신호는 감지기 UED, UID 및 SED에 의해 동시에 획득됨
절연체 관찰(비코팅)
표본: Al 양극 산화막의 표면
관찰 조건: 착륙 전압 5kV, WD 4.5mm, LV 모드(50Pa), 검출기 LVBED
저진공을 사용할 경우 표면의 나노 기공을 대전 효과 없이 관찰할 수 있습니다.
액체에 분산된 입자의 현장 관찰 시편: 물에 분산된 CeO2
관찰 조건: 착륙 전압 10kV, WD 4.5mm, LV 모드(50Pa), 검출기 LVBED
Flow View in-situ 홀더에 액체를 둘러싸면 홀더의 질화규소 창을 통해 입자를 관찰할 수 있습니다.
액체에서 입자의 분산도 관찰할 수 있습니다. (Flow View Holder는 FlowVIEW Tek에서 생산)
참조
N. Asano et. al., "열수 합성 나노결정 및 나노클러스터에 대한 주사 전자 현미경을 사용한 직접 관찰 기술." 나노물질 , 11, 908, 2021.
새로운 후방 산란 전자 검출기
신틸레이터 후방 산란 전자 검출기(SBED)는 감도가 우수하여 낮은 가속 전압에서 재료 대비 이미지를 얻는 데 유용합니다. 다목적 후방 산란 전자 검출기(VBED)를 사용하면 분할된 검출 요소 모양을 기반으로 3D 및 표면 지형과 같은 특징적인 이미지를 얻을 수 있습니다.
SBED(신틸레이터 후방 산란 전자 검출기)
검출기에 신틸레이터를 사용하면 반도체 소자에 비해 검출 감도와 응답성이 향상됩니다.
표본: 쥐 소뇌의 초박형 단면(역 대비)가속 전압: 2.0kV
견본: 토너, 가속 전압: 1.5kV
시료: 동판(전이관찰), 가속전압:25kV
VBED 이미지(다용도 후방 산란 전자 검출기)
반도체 검출 소자는 5개의 세그먼트로 나누어져 있어 관찰 목적에 맞는 신호를 선택할 수 있습니다.
각도 선택
시편: 신틸레이터, 가속전압: 3.0kV
후방 산란 전자의 획득 각도에 따라 구성 정보는 내부 세그먼트에서 향상되고 지형 정보는 외부 세그먼트에서 향상됩니다. 또한 AI 증착 필름 아래 형광체의 대비를 비교하여 다른 깊이 관련 정보를 잠재적으로 조사할 수 있습니다.
3D 재구성
표본: CCD 소자의 온칩 마이크로 렌즈, 가속 전압: 7.0kV
3개의 세그먼트에서 얻은 2D 이미지를 사용하여 XNUMXD 이미지의 재구성이 가능합니다.
(링크)
보도 자료
새로운 쇼트키 전계 방출 주사 전자 현미경 JSM-IT800 －지능형 기술(IT) 플랫폼을 갖춘 FE-SEM 출시－ (2020/5/25)
제품 사양
| JSM-IT800(HL) | JSM-IT800(이) | JSM-IT800(i) | JSM-IT800(SHL) | JSM-IT800(SHL) | |
|---|---|---|---|---|---|
| 분해능 | 0.7nm(20kV) | 0.6nm(15kV) | 0.5nm(15kV) | 0.6nm(15kV) | 0.5nm(15kV) |
| 1.3nm(1kV) | 1.0nm(1kV) | 0.7nm(1kV) | 1.1nm(1kV) | 0.7nm(1kV) | |
| 0.9nm(500V) | |||||
| 3.0nm(15kV, 5nA, WD 10mm) | 3.0nm(15kV, 5nA, WD 8mm) | 3.0nm(15kV, 5nA, WD 8mm) | 3.0nm(15kV, 5nA, WD 10mm) | 3.0nm(5kV, 5nA, WD 10mm) | |
| 확대 | 사진 확대: ×10 ~ ×2,000,000 (128 × 96mm) 디스플레이 배율: ×27 ~ ×5,480,000 (1,280 × 960 픽셀) |
사진 확대: ×25 ~ ×2,000,000(128 × 96mm) 디스플레이 배율: ×69 ~ ×5,480,000(1,280 × 960픽셀) |
사진 확대: ×25 ~ ×2,000,000(128 × 96mm) 디스플레이 배율: ×69 ~ ×5,480,000(1,280 × 960픽셀) |
사진 확대: ×10 ~ ×2,000,000 (128 × 96mm) 디스플레이 배율: ×27 ~ ×5,480,000 (1,280 × 960 픽셀) |
사진 확대: ×10 ~ ×2,000,000 (128 × 96mm) 디스플레이 배율: ×27 ~ ×5,480,000 (1,280 × 960 픽셀) |
| 착륙 전압 | 0.01~30kV | ||||
| 프로브 전류 | 몇 pA ~ 300nA(30kV) 몇 pA ~ 100nA(5kV) |
몇 pA ~ 300nA(30kV) 몇 pA ~ 100nA(5kV) |
몇 pA ~ 500nA(30kV) 몇 pA ~ 100nA(5kV) |
몇 pA ~ 500nA(30kV) 몇 pA ~ 100nA(5kV) |
몇 pA ~ 500nA(30kV) 몇 pA ~ 100nA(5kV) |
| 검출기(표준) | XNUMX차 전자 검출기(SED) 상부 전자 검출기(UED) |
XNUMX차 전자 검출기(SED) 상부 인렌즈 검출기(UID) |
XNUMX차 전자 검출기(SED) 상부 인렌즈 검출기(UID) 상부 전자 검출기(UED) |
XNUMX차 전자 검출기(SED) 상부 하이브리드 검출기(UHD) |
XNUMX차 전자 검출기(SED) 상부 하이브리드 검출기(UHD) |
| 전자총 | 렌즈 내 Schottky Plus 전계 방출 전자총 | ||||
| 이미 터 보증 기간 |
3년 | ||||
| 조리개 각도 조절 렌즈(ACL) | 내장 | 내장 | 내장 | 내장 | 내장 |
| 대물 렌즈 | 하이브리드 렌즈 | 세미 인 렌즈 | 세미 인 렌즈 | 슈퍼 하이브리드 렌즈 | 슈퍼 하이브리드 렌즈 |
| 표본 단계 | 완전한 eucentric goniometer 단계 | 완전한 eucentric goniometer 단계 | 완전한 eucentric goniometer 단계 | 완전한 eucentric goniometer 단계 | 완전한 eucentric goniometer 단계 |
| 무대 제어 | 5축 모터 드라이브 | 5축 모터 드라이브 | 5축 모터 드라이브 | 5축 모터 드라이브 | 5축 모터 드라이브 |
| 표본 크기 (끌어내다) |
유형1(표준) 최대 직경: 170mm, 최대 높이: 45mm(WD 5mm) 스테이지 이동 범위(X:70mm Y:50mm Z:1 ~ 41mm 틸트: -5 ~ 70° 회전: 360°) Type2(옵션) 최대 직경: 200mm, 최대 높이: 55mm(WD 5mm) 스테이지 이동 범위(X:100mm Y:100mm Z:1 ~ 50mm 틸트: -5 ~ 70° 회전: 360°) Type3(옵션) 최대 직경: 200mm, 최대 높이: 45mm(WD 5mm) 스테이지 이동 범위(X:140mm Y:80mm Z:1 ~ 41mm 틸트: -5 ~ 70° 회전: 360°) |
||||
| 저진공 모드 (선택권) |
유효한 | ||||
| 분석 기능 (선택권) |
EDS WDS EBSD CL |
EDS WDS EBSD CL |
EDS WDS EBSD CL |
EDS WDS EBSD CL |
EDS WDS EBSD CL |
| 주요 응용(예시) | 자성 재료 광역 EBSD |
반도체 소자 분석 | 자성체, EBSD, 생체시료 (어레이 단층 촬영, CLEM) |
||
표본 교환 시스템
광학 이미지 수집은 두 표본 교환 시스템을 모두 지원합니다.
대용량 시료 교환에 적합한 인출 시스템
인출 시스템으로
최대 표본 크기: 직경 170mm
진공 배기: 3~5분
광학 이미지 영역: 120mm × 120mm
빠르고 깨끗한 시편 로딩/언로딩이 가능한 시편 교환 챔버
사전 대피 챔버 포함
최대 표본 크기: 직경 100mm
진공 배기: 60초 이하
광학 이미지 영역: 70mm × 70mm
대피 및 배기 시간은 표본 또는 설치 환경에 따라 변경됩니다.
광학 이미지를 사용하려면 옵션인 스테이지 내비게이션 시스템(SNS)이 필요합니다.
표본 교환 챔버는 선택 사항입니다.
DrySD™ 감지기의 세부 정보
| 감지 영역 | 60 mm2 |
|---|---|
| 에너지 해상도 | 133eV 이하 |
| 감지 가능한 요소 | 유 투 유 |
| 데이터 관리 기능 및 보고서 작성 | 스마일뷰™ 랩 |
주요 옵션
상부 전자 검출기(UED) *SHL, SHL은
상부 XNUMX차 전자 검출기(USD) *HL
상부 전자 검출기(UED) *는
상위 전자 변환기(UEC) *는
후방 산란 전자 검출기(BED)
신틸레이터 후방 산란 전자 검출기(SBED)
다목적 후방 산란 전자 검출기(VBED) *HL, SHL, SHL
투과전자검출기(TED)
저진공(저진공 후방 산란 전자 검출기(LVBED) 포함)
저진공 XNUMX차 전자 검출기(LVSED)
전자 후방 산란 회절 시스템(EBSD)
파장 분산형 X선 분광계(WDS)
소프트 X선 방출 분광계(SXES) *HL, SHL, SHL
프로브 전류 검출기
표본 교환실
무대 내비게이션 시스템
챔버 카메라
가동 테이블
조작 패널
트랙볼
스밀레나비
몽타주
라이브 지도
라이브 AI 필터
스마일뷰™ 지도
카탈로그 다운로드
어플리케이션
애플리케이션 JSM-IT800
이미징 질량 분석 및 주사 전자 현미경을 사용한 UV 조사에 의한 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름의 열화 분석
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IB-19520CCP 크로스 섹션 폴리셔™
처리 중 액체 질소로 시편을 냉각하여 열 손상을 줄일 수 있습니다.
액체 질소의 소비를 억제하도록 설계되어 냉각 시간이 길어집니다.
액체 질소에 담그면서 시편을 급속 냉각합니다. 실온으로 돌아갑니다. 부품을 분리할 수 있도록 설계되었습니다.
샘플을 공기에 노출시키지 않고 연마에서 관찰까지의 과정을 수행할 수 있는 메커니즘을 포함합니다.
IB-19530CP 횡단면 폴리셔™
IB-19530CP는 혁신적으로 설계된 다목적 스테이지를 특징으로 하여 점점 다양화되는 시장 요구를 충족하고 다양한 종류의 기능 홀더에 의한 다기능을 실현합니다. 특수 기능 홀더와 결합된 다목적 스테이지를 통해 사용자는 평면 밀링 및 폴리싱, 스퍼터 코팅 및 보다 전통적인 단면 이온 밀링과 같은 다양한 기능을 수행할 수 있습니다.
Gather-X JED 시리즈 Dry SD™ 창 없는 EDS
JSM-IT800/창이 없는 EDS 분석으로 과학 탐구
가벼운 원소부터 무거운 원소까지 Stress-free EDS 분석!탄소중립에 힘입어 소재 개발이 더욱 중요해지고 있습니다.
예를 들어, 배터리 소재의 경우 Li와 같은 가벼운 원소부터 Ni, Co, Mn과 같은 전이금속에 이르기까지 광범위한 분석이 필요합니다.
반도체 재료 및 촉매의 나노입자 분석에 있어 효율적이고 고감도의 분석에 대한 요구가 높아지고 있습니다.
새롭게 개발된 Dry SD™ Gather-X는 JSM-IT800*에 장착 가능한 Windowless 타입의 EDS입니다. Li-K(54eV)와 같은 저에너지 특성 X선을 포함한 모든 에너지 대역에서 고감도 X선 분석이 가능합니다. 또한 JSM-IT800과 SEM/EDS 통합 소프트웨어가 연동된 안전기능으로 누구에게나 안전하고 편안한 조작성을 제공할 수 있다.
*JSM-IT800에 설치 가능 / .
연X선 방출 분광기(SXES)
SXES(Soft X-Ray Emission Spectrometer)는 새로 개발된 회절 격자와 고감도 X-ray CCD 카메라로 구성된 초고해상도 분광기입니다.
EDS와 같은 방식으로 병렬검출이 가능하며 WDS의 에너지 분해능을 능가하는 0.3 eV(Fermi-edge, Al-L 규격)의 초고에너지 분해능 분석이 가능하다.
