특징
전자 현미경으로 관찰하는 동안 오염 완화
표본 및 도구 청소
표본 표면을 친수화합니다.
전자 현미경으로 관찰하는 동안 검체 표면에 어두운 오염 영역이 점진적으로 형성될 수 있습니다.
이 표면 오염은 표본의 실제 표면 구조를 숨기거나 오염된 영역의 해상도를 저하시킬 수 있습니다.
그 '다크 스퀘어'를 본 적이 있습니까? 이는 표본 표면의 탄화수소 기반 오염 물질이 전자빔에 의해 조사되어 탄소질 침전물이 생성될 때 발생합니다.
Excimer UV Cleaner는 UV 광(Xe 여기, 172nm)을 사용하여 시편 표면의 오염을 제거합니다. 이 시스템은 시편 표면을 친수화하는 데에도 사용할 수 있습니다.
관찰 중 오염 완화
SEM에서 미세 표면 구조를 관찰하려면 낮은 가속 전압에서 이미징이 필요합니다. 이러한 조건 하에서,
표면 오염은 이 미세 구조의 관찰을 숨길 수 있습니다.
관찰은 배율 100,000배(왼쪽 그림), 그 다음 낮은 배율 30,000배(오른쪽 그림)에서 수행되었습니다. 시편을 가공하지 않은 경우(윗줄), 100,000배 관찰된 부분이 더 어둡고 선명하지 않게 변합니다. 그러나 Excimer UV Cleaner(하단)를 사용하여 세척한 후에는 시료 표면에 탄화수소 화합물이 적기 때문에 전자빔 조사에 의한 오염이 적습니다.
시편 표면에 부착된 오염 청소
검체를 장기간 사용하거나 보관하면 환경에 포함된 유기화합물로 인해 오염이 누적됩니다.
Excimer UV Cleaner는 건조한 환경에서 유기물로 인한 오염을 제거할 수 있습니다.
친수화
Excimer UV Cleaner가 자외선을 조사하면 활성산소종이 발생하여 표면에 극성 작용기를 형성할 수 있습니다.
친수성을 향상시킵니다. 이 전처리 공정은 EM 관찰을 위해 시편을 가공할 때 접착력을 향상시키기 위해 적용할 수 있습니다.
표본 청소 메커니즘
/ Excimer UV Cleaner를 이용한 친수화
전자빔에 의한 오염과정
청소 과정
표본 트레이의 높이는 큰 표본에 맞게 조정할 수 있습니다.
제품 사양
| 조사된 UV 광의 파장 | 172 nm의 | ||
|---|---|---|---|
| 최대 표본 크기 | 105mm (W) × 105mm (D) × 70mm (H) | ||
| 최대 시편 질량 | 1의 kg | ||
| 조사 시간 | 10 초 ~ 99 분 | ||
| 진공 펌프 | 다이어프램식 건식진공펌프 | ||
| 설치 요구 사항 : |
출력 | 단상 90~110V AC, 50/60Hz, 500VA | |
| 치수 및 무게 (케이블 및 진공 파이프는 포함되지 않음) |
본체 | 39cm(W)×50cm(D)×32cm(H) 약 22kg | |
| 진공 펌프 | 50cm(W)×20cm(D)×30cm(H) 약 9kg | ||
| 실온 | 15 ℃에 30 | ||
| 습기 | 60%(RH) 이하(결로 없을 것) | ||
| 정기 교체 부품(누적 조사 시간이 1000시간이 될 때마다 교체) | UV 램프, 진공 게이지, 오링 등 | ||
* 참고: 사양은 수정 또는 추가가 없을 때 보증되며 예고 없이 변경될 수 있습니다.
