JEM-2100F는 다목적 200kV FE(Field Emission) 분석 전자 현미경입니다. 사용자의 목적에 맞게 다양한 버전을 제공합니다. FE 전자총(FEG)은 기존의 열이온 전자총으로는 달성할 수 없는 매우 안정적이고 밝은 전자 탐침을 생성합니다. 이 기능은 주사 투과 현미경과 나노 크기의 샘플 분석에서 초고해상도에 필수적입니다. EDS(Energy Dispersive X-ray Spectrometer) 또는 EELS(전자 에너지 손실 분광계) 또는 CCD 카메라와 같은 다양한 분석 기기 및/또는 카메라는 현미경 제어의 PC 시스템과 통합할 준비가 되어 있습니다.
특징
고해상도 관찰 및 나노 스케일 분석을 위한 FETEM
FEG는 고휘도와 고안정성을 특징으로 하여 원자 분해능에서 구조적 스캐닝 이미징을 구현합니다. 매우 밝은 서브나노미터 크기의 프로브를 통해 서브나노미터 분해능에서 샘플에 대한 궁극적으로 민감한 분석을 수행할 수 있습니다. FEG를 사용하면 좁은 에너지 확산으로 매우 일관된 조명을 제공하기 때문에 고해상도 이미지의 콘트라스트도 향상됩니다. 또한 전자바이프리즘(Electron bi-prism)을 옵션으로 장착하여 고간섭 조명이 필요한 전자홀로그래피도 가능합니다.
매우 안정적인 시편 구동 시스템
안정적인 시료 구동 시스템을 통해 나노미터 규모의 분석을 수행할 수 있습니다. 이 시스템을 사용하면 시편이 매우 낮은 드리프트 및 진동으로 기울기 및/또는 이동을 수행할 수 있습니다. 선택적으로 사용 가능한 피에조 시편 드라이브 시스템을 사용하면 시편을 ±1.2μm 범위의 서브나노미터 분해능으로 이동할 수 있습니다.
시스템은 다양한 시료 홀더를 수용하기 때문에 온도, 회전 또는 기울기와 같은 다양한 시료의 물리적 조건을 변경할 수 있습니다.
다른 기기와의 통합
현미경은 PC로 완전히 제어할 수 있습니다. 설계 개념을 통해 EDS, EELS 또는 CCD 카메라와 같은 다양한 분석 기기 및/또는 카메라를 통합할 수 있습니다.
제품 사양
| 구성※ 1 | 초고해상도 (UHR) |
고해상도 (인사) |
높은 표본 기울기 (세금 별도) |
크라이오 폴피스 (CR) |
고 대비 (HC) |
|---|---|---|---|---|---|
| 폴피스 | URP | HRP | PH | CRP | HCP |
| 분해능 | |||||
| 포인트 적립 | 0.19 nm의 | 0.23 nm의 | 0.25 nm의 | 0.27 nm의 | 0.31 nm의 |
| 격자 | 0.1 nm의 | 0.1 nm의 | 0.1 nm의 | 0.14 nm의 | 0.14 nm의 |
| Acc. 전압※ 2 | 160kV, 200kV※ 1 | ||||
| 최소 단계 | 50 V | ||||
| 단계 크기 | 최소 50V | ||||
| 전자 소스 | |||||
| 이미 터 | ZrO/W(100) 쇼트키 | ||||
| 표면 타입 | ≧4×108 A/센티미터2 /씨 | ||||
| 압력 | × 10-8 아빠 주문 | ||||
| 프로브 전류 | 0.5nm 프로브의 경우 1nA | ||||
| 전력 안정성 | |||||
| Acc. 전압 | ≤1×10-6／분 | ||||
| OL 전류 | ≤1×10-6／분 | ||||
| 대물렌즈의 광학적 매개변수 | |||||
| 초점 거리 | 1.9 mm | 2.3 mm | 2.7 mm | 2.8 mm | 3.9 mm |
| 구형 수차. 계수. | 0.5 mm | 1.0 mm | 1.4 mm | 2.0 mm | 3.3 mm |
| 색수차. 계수. | 1.1 mm | 1.4 mm | 1.8 mm | 2.1 mm | 3.0 mm |
| 최소 초점 단계 | 1.0 nm의 | 1.4 nm의 | 1.8 nm의 | 2.0 nm의 | 5.2 nm의 |
| 스폿 크기(직경) | |||||
| TEM 모드 | 2 ~ 5nm | ７ ~ 30nm | |||
| EDS 모드 | 0.5 ~ 2.4nm | - | - | 4 ~ 20nm | |
| 익일 모드 | - | - | - | ||
| CBD 모드 | 1.0 ~ 2.4nm | - | |||
| 수렴 빔 회절에 대한 매개변수 | |||||
| 수렴각 | 1.5 ~ 20mrad | - | - | ||
| 수용각 | ± 10 ° | - | - | ||
| 확대 | |||||
| 매그 모드 | ×2,000~1,500,000 | ×1,500~1,200,000 | ×1,200~1,000,000 | ×1,000~800,000 | |
| LOW MAG 모드 | ×50~6,000 | ×50~2,000 | |||
| SA MAG 모드 | ×8,000~800,000 | ×6,000~600,000 | ×5,000~600,000 | ×5,000~400,000 | |
| 카메라 길이 | |||||
| SA 회절(mm) | 80 ~ 2,000 | 100 ~ 2,500 | 150 ~ 3,000 | ||
| HD 회절(m) | 4 ~ 80 | ||||
| HR 회절※ 2 | 333 mm | ||||
| 표본 이동 | |||||
| 엑스, 와이 | 2 mm | 2 mm | 2 mm | 2 mm | 2 mm |
| Z | ± 0.1 mm | ± 0.2 mm | ± 0.2 mm | ||
| 표본 기울기 | |||||
| X/Y※ 3 | ±25/±25° | ±35/±30° | ±42/±30° | ±15/±10° | ±38/±30° |
| X※ 4 | ± 25 ° | ± 80 ° | ± 80 ° | ± 80 ° | ± 80 ° |
| 줄기※ 5 | |||||
| 명 시야 격자 해상도 | 0.2 nm의 | - | - | ||
| EDS※ 6 | |||||
| 입체각(30mm2) | 0.13초 | 0.13초 | 0.13초 | ※ 8 | 0.09 SR |
| 입체각(50mm2)※ 7 | 0.24초 | 0.28초 | 0.23초 | ||
| 이륙 각도(30mm2) | 25 ° | 25 ° | 25 ° | ※ 8 | 20 ° |
| 이륙 각도(50mm2)※ 7 | 22.3 ° | 24.1 ° | 25 ° | ||
JEM-2100F를 주문할 때 구성을 선택하십시오.
80kV, 100kV 및 120kV는 가속 튜브용 단락 스위치 옵션으로 가능합니다.
시편 틸팅 홀더(EM-31630) 사용.
High Tilt Specimen Retainer(EM-21310) 사용.
선택적 스캐닝 이미지 관찰 장치로.
옵션 EDS 검출기로.
JEOL 50mm로2 EDS 검출기.
EDS 감지기를 사용할 수 없습니다.
어플리케이션
신청 JEM-2100F
Lorentz TEM의 자기 이미징을 위한 JEM-2100F 적용
갤러리 (Gallery)
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표본: 질화붕소 상의 탄소 나노튜브
국립 재료 과학 연구소 재료 나노 구조 국제 센터 바온도 요시오 박사의 표본 제공 -
표본: DRAM
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