고해상도 분석 전자 현미경인 JEM-3100F는 구조의 나노미터 이하 해상도 이미징과 재료의 나노미터 규모 분석을 달성할 수 있습니다. 이 현미경의 최첨단 전자 광학 시스템을 통해 TEM 및 STEM 모드 모두에서 0.1nm 해상도의 선명한 이미지를 얻을 수 있습니다. JEM-3100F는 기계적 및 전기적 안정성이 향상되어 0.14nm 프로브에서도 안정적인 전자빔을 제공합니다. 이러한 기능 덕분에 JEM-3100F는 원자 수준에서 재료를 분석하기 위한 강력한 연구 도구입니다.
특징
전계 방출 총(FEG)
시편의 전자 프로브 밝기 증가는 나노 영역 분석 및 관찰 이미지에서 S/N비 향상으로 이어집니다. JEM-3100F에 적용된 FEG는 LaB보다 약 2배 더 높은 밝기를 제공합니다.6 전자총. FEG를 사용하면 좁은 에너지 확산으로 매우 일관된 조명을 제공하기 때문에 고해상도 이미지의 콘트라스트도 향상됩니다. 또한 전자바이프리즘(Electron bi-prism)을 옵션으로 장착하여 고간섭 조명이 필요한 전자홀로그래피도 가능합니다.
콘덴서 대물렌즈*1
프로브 직경을 줄이기 위해서는 조명 대물 렌즈에 대한 작은 수차 계수가 필요합니다. 집광-대물렌즈는 집광렌즈와 대물렌즈의 기능을 겸비하여 수차계수를 작게 할 수 있다. JEM-3100F는 대물 렌즈로 새로 개발된 집광 대물 렌즈를 사용합니다. 이 대물 렌즈*2, 세계 최고 수준의 구면수차와 색수차 각각 0.6mm와 1.3mm를 제공할 뿐만 아니라 오염방지 콜드핑거와 EDS 디텍터의 최적 배치를 고려하여 설계되었습니다. 그 결과 직경 0.4nm의 탐침으로 시료 나노미터 영역의 원소분석과 전자회절을 동시에 초고해상도 관찰이 가능하다.
UHR 및 HR 구성용
UHR 구성의 경우
새로운 제어 방식 측면 입력 고니오미터
JEM-3100F는 새로 채택된 서보 모터 제어 기능이 있는 사이드 엔트리 고니오미터를 사용하여 시편 스테이지의 조작성을 그 어느 때보다 향상시킵니다. 또한 현미경은 피에조 드라이브 메커니즘을 표준으로 제공하므로 사용자가 피에조 드라이브로 전환할 때 고배율에서 시야를 이동하는 조작성이 크게 향상됩니다. 또한 피에조 드라이브를 활용한 드리프트 없는 제어 장치를 옵션으로 장착할 수 있습니다. 또한 고니오미터를 차폐하는 기밀 커버(Clam Shell)는 소음 및 기압 변화에 대한 저항성을 향상시킵니다.
빠른 빔 선택 시스템
JEM-3100F는 다양한 조명 렌즈 조건을 제공합니다. 다음 XNUMX가지 조명 모드로 나뉩니다.
TEM 모드: TEM 이미지 관찰용
EDS 모드: 원소 분석용
NBD 모드: 나노미터 영역에서의 회절용
CBD 모드: 수렴 빔 전자 회절용
원터치 버튼으로 사용자 목적에 맞는 최적의 조명 모드를 선택할 수 있습니다. TEM 이미지를 관찰하면서 간단한 버튼 조작으로 원하는 마이크로 프로브를 얻을 수 있어 정확한 마이크로 영역 분석이 가능하다.
제품 사양
| 구성※ 1 | 초고해상도(UHR) | 고해상도(HR) | 고대비(HC) |
|---|---|---|---|
| 분해능 | |||
| TEM 입자 이미지 | 0.17 nm의 | 0.19 nm의 | 0.26 nm의 |
| TEM 격자 이미지 | 0.1 nm의 | 0.1 nm의 | 0.14 nm의 |
| STEM 명시야 이미지※ 2 | 0.14 nm의 | 0.14 nm의 | - |
| STEM 암시야 이미지※ 3 | 0.14 nm의 | 0.14 nm의 | - |
| 가속 전압 | 300kV, 200kV, 100kV※ 4 | ||
| 최소 단계 | 100 V | ||
| 전자 소스 | |||
| 이미 터 | ZrO/W(100) 쇼트키 | ||
| 표면 타입 | 7 × 108A/센티미터2･sr 이상 | ||
| 진공 | 3×10까지-8 Pa | ||
| 프로브 전류 | 0.5nm 프로브 직경에서 1nA 이상 | ||
| 전원 공급 안정성 | |||
| 가속 전압 | 2 × 10-6／분 | ||
| 대물 렌즈 전류 | 1 × 10-6／분 | ||
| 대물렌즈의 광학적 파라미터 | |||
| 초점 거리 | 2.7 mm | 3.0 mm | 3.9 mm |
| 구면 수차 계수 | 0.6 mm | 1.1 mm | 3.2 mm |
| 색수차 계수 | 1.5 mm | 1.8 mm | 3.0 mm |
| 최소 가변 초점 거리 | 1.0 nm의 | 1.4 nm의 | 4.1 nm의 |
| nmφ 단위의 스폿 크기(α 선택기) | |||
| TEM 모드 | 2~5(3) | 7~30(-) | |
| EDS 모드 | 0.4~1.6(5) | 4~20(-) | |
| 익일 모드 | 0.4~1.6(5) | - | |
| CBD 모드 | 0.4~1.6(8) | - | |
| 수렴 전자 회절 | |||
| 수렴각(2α) | 1.5~20mrad 이상 | - | |
| 수용각(반각) | 10 ° | - | |
| 확대 | |||
| MAG | ×4,000~1,500,000 | ×3,000~1,000,000 | |
| 낮은 MAG | ×60~15,000 | ||
| SA 매그 | ×10,000~500,000 | ×6,000~300,000 | |
| 회절 카메라 길이 | |||
| 선택 영역 회절(mm) | 12 ~ 200 | 200 ~ 3000 | |
| 고분산 회절(m) | 4 ~ 80 | 4에서 80 | |
| 표본실※ 5 | |||
| 시편 이동 범위(XY / Z) (㎜) |
X, Y : 2 Z : 0.2 |
X, Y : 2 Z : 0.4 |
X, Y : 2 Z : 0.4 |
| 시편 기울기 각도(X / Y) | ±25°/±25° | ±35°/±30° | ±38°/±30° |
| EDS※ 6 | |||
| 입체각 | 0.13 SR | 0.09 SR | |
| 이륙 각도 | 25 ° | 20 ° | |
JEM-3100F를 주문할 때 구성(UHR, HR 또는 HC)을 지정하십시오.
STEM 이미지를 관찰하기 위해서는 별도의 스캐닝 이미지 관찰 장치가 필요합니다.
STEM 암시야 이미지를 관찰하려면 선택적 암시야 이미지 관찰 장치가 필요합니다.
100kV 및 200kV에서 이미지를 관찰하려면 별매의 전극 단락 스위치가 필요합니다.
나열된 값은 시편 틸팅 홀더를 사용하는 경우입니다.
선택적 EDS가 필요합니다. 나열된 성능은 30mm에 대한 것입니다.2.
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