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"NEOARM" / JEM-ARM200F에는 JEOL의 고유한 저온 전계 방출 총(Cold FEG)과 고차 수차를 보정하는 새로운 Cs 교정기(ASCOR)가 함께 제공됩니다. Cold FEG와 ASCOR의 조합은 200kV 가속 전압뿐만 아니라 30kV의 낮은 전압에서도 원자 해상도 이미징을 가능하게 합니다.
"NEOARM"은 또한 JEOL의 새로운 수차 보정 알고리즘을 통합한 자동 수차 보정 시스템을 탑재하여 빠르고 정확한 자동 수차 보정을 제공합니다. 이 시스템은 더 높은 처리량의 원자 해상도 이미징을 가능하게 합니다.
또한 조명 요소의 대비를 향상시키는 새로운 STEM 검출기가 표준 장치로 통합되었습니다. 새로운 STEM 이미징 기술(e-ABF: Enhanced ABF)에 의해 가벼운 요소의 명암이 향상되어 낮은 가속 전압에서도 가벼운 요소의 물질을 쉽게 관찰할 수 있습니다.
현미경실은 원격조작에 대응하기 위해 수술실과 분리되어 있습니다. 또한 JEOL 제품의 신개념 컬러인 '순백'과 'JEOL은'을 적용해 '네오암'의 세련된 외관 디자인으로 이어진다.

특징

 

기능 1

구면 수차(Cs) 보정기 ASCOR(고급 STEM 보정기)

"NEOARM"에 통합된 ASCOR은 C 보정 후 해상도를 제한하는 XNUMX중 난시를 억제할 수 있습니다.
ASCOR와 Cold FEG의 조합은 낮은 색수차를 제공하고 회절 한계를 확장하여 그 어느 때보다 높은 해상도를 달성합니다.

GaN [211]: 200kV

시 [110]:80kV

그래핀(단층):30kV

  • UHR 구성에 의한 STEM 이미지

200kV, 80kV 및 30kV에서 얻은 원자 해상도 ADF-STEM 이미지, FFT 패턴 및 Ronchigram 이미지

 

기능 2

자동 수차 보정 소프트웨어 JEOL COSMO™(Corrector System Module)

JEOL COSMO™는 새로운 수차 보정 알고리즘(SRAM: Segmented Ronchigram Auto-correlation function Matrix)을 채택합니다. 따라서 수차 보정을 위해 특별한 샘플이 필요하지 않으므로 고차 수차를 고정밀도로 빠르게 보정할 수 있습니다. 이 시스템은 기존 보정 알고리즘에 비해 빠른 처리가 가능하고 작업을 자동화하여 고객 현미경의 복잡한 보정 워크플로를 제거합니다. 이러한 기능은 더 높은 처리량의 원자 해상도 이미징을 가능하게 합니다.

샘플: Si[110]
가속 전압: 200kV

 

기능 3

새로운 ABF(환형 명시야) 감지기 시스템

ABF 검출기는 빛 요소의 고해상도 이미징에 적합한 기술로 널리 사용됩니다. "NEOARM"은 새롭게 설계된 ABF 이미징 기술(e-ABF:enhanced ABF)에 의해 조명 요소의 향상된 콘트라스트를 지원합니다.
이 기능은 가벼운 원소를 포함하는 물질의 원자 수준 구조 관찰을 용이하게 합니다.

참조: SD Findlay, Y.Kohno, LA Cardamone, Y.Ikuhara, N.Shibata, Ultramicroscopy 136 (2014)31-41.

 

기능 4

완벽한 시력 탐지기

"NEOARM"에 통합된 완벽한 시력 탐지기는 하이브리드 신틸레이터를 사용합니다.
이 검출기는 가속 전압 설정에 관계없이 항상 고대비 및 정량적 STEM 이미지를 획득할 수 있습니다.

 

기능 5

OBF 시스템(옵션) *

새로운 이미징 방법에서 'OBF STEM(최적의 명시야 STEM)', 분할된 STEM 검출기에 의해 획득된 원시 이미지는 검색된 이미지의 신호 대 잡음비를 최대화하기 위해 전용 푸리에 필터와 함께 위상 이미지 재구성을 위한 소스로 사용됩니다.
이 유망한 방법은 매우 낮은 전자 선량 조건에서 작동하는 동안에도 무거운 원소와 가벼운 원소 모두에 대해 더 높은 대비를 실현합니다. 표준 ADF 및 ABF STEM 방법으로 관찰하기 어려운 빔에 민감한 물질은 광범위한 배율에서 더 높은 명암비로 쉽게 분석할 수 있습니다.

K. 오에, T. 세키, 외, Ultramicroscopy 220, 113133(2021)

STEM 저선량 이미징

금속 유기 프레임워크(MOF) 및 제올라이트를 포함한 빔 감지 재료는 가벼운 요소의 프레임워크에 대한 명확한 원자 대비를 유지하면서 감소된 전자 도즈(일반적으로 프로브 전류 < 1.0 pA)를 필요로 합니다.
OBF STEM은 이러한 저선량 실험에 유리하여 원자 해상도에서 초고선량 효율적인 STEM 이미징을 실현합니다. 

OBF STEM Image MOF MIL-101(왼쪽)과 MFI Zeolite(오른쪽) 모두 한 번에 획득되며 1Å의 높은 공간 분해능은 오른쪽 삽입된 FFT 패턴에서도 관찰할 수 있습니다. 또한 스택 이미지 평균화(왼쪽 삽입)는 해상도와 대비가 매우 균형이 잘 잡혀 있음을 확인합니다.

샘플 : MOF MIL-101
기기 : JEM-ARM300F2
가속 전압 : 300kV
수렴 반각 : 7mrad
프로브 전류 : < 0.15 pA
삽입) FFT 패턴 및 50프레임 평균 이미지
샘플 제공: Zhenxia Zhao, Guangxi University

샘플 : MFI 제올라이트
기기 : JEM-ARM300F2
가속 전압 : 300kV
수렴 반각 : 16mrad
프로브 전류 : 0.5pA
삽화) FFT 패턴

가벼운 요소를 위한 고대비 이미징

OBF STEM은 선량 효율이 높을 뿐만 아니라 가벼운 요소 이미징에도 유리합니다.
더 낮은 가속 전압에서도 가벼운 요소에 대해 더 높은 대비와 공간 분해능을 모두 달성할 수 있습니다.

샘플 : GaN [110]
기기 : JEM-ARM200F
가속 전압 : 60kV
수렴 반각 : 35mrad

샘플 : 그래핀
기기 : JEM-ARM200F
가속 전압 : 60kV
수렴 반각 : 35mrad

 

가벼운 요소에 대한 분해능은 가속 전압이 높을수록 훨씬 좋아집니다.
이제 각 원자 열은 복잡한 구조 내부 또는 더 높은 굴절률의 결정학 축을 따라 깊은 서브 옹스트롬 분해능으로 명확하게 분리됩니다.
OBF STEM의 품질은 낮은 선량 조건에서 우수하며 Cs 보정 전자 현미경의 표준 프로브 조건에서 더욱 향상됩니다.

시료 : β-Si3N4 [0001]
기기 : JEM-ARM200F
가속 전압 : 200kV
수렴 반각 : 24mrad
삽입) 평균 10프레임

샘플 : GaN [211]
기기 : JEM-ARM300F2
가속 전압 : 300kV
수렴 반각 : 32mrad
삽입) 평균 20프레임

  • e-ABF(Enhanced ABF)는 SAAF Quad 구성에서 사용할 수 없습니다.

라이브 OBF 이미징

실제 실험에서 라이브 OBF 이미징은 모든 작업이 선량 제한 조건에서 수행되어야 하므로 빔에 민감한 재료의 기본입니다. 라이브 기능은 OBF 시스템에 포함되어 있으며 TEM 제어 소프트웨어 내에서 구현되며 간단한 GUI 제어 및 기존 STEM 이미지와 함께 실시간 디스플레이 업데이트가 제공됩니다.

영화

JEM-ARM200F를 사용한 OBF-STEM 이미지의 실시간 관찰

◆위의 상자에서 "재생" 버튼을 클릭하면 동영상이 시작됩니다(약 1분) ◆

제품 사양

분해능※ 1 STEM HAADF 이미지 오후 70시(200kV), 오후 100시(80kV), 오후 160시(30kV)
TEM 정보 제한 100pm(200kV), 110pm(80kV), 250pm(30kV)
전자총 콜드 필드 에미션 건(Cold FEG): 표준
수차 보정기 줄기: NEO ASCOR HOAC※ 2, TEM: DSS가 있는 CETCOR※ 3
코렉터 오토튜닝 시스템 NEO JEOL COSMO™ Auto Tuning System Ad-hock Tune(SIAM) 내장
가속 전압 30 ~ 200 kV (80, 200 kV: 표준, 30, 60, 120 kV: 옵션)
자기장 프리 모드 Lorentz 렌즈 설정(화면에서 ×50 ~ 80k): 표준
표본 이동 시스템 X, Y 및 Z 초미세 기계식 드라이브, 초미세 압전 장치 드라이브: 표준
작업 유형 RDS※ 4 조작
  • UHR(STEM/TEM Cs 교정기가 구성된 UHR)

  • HOAC(고차 수차 보정기)

  • DSS(데스캔 시스템)

  • RDS (룸 분할 스타일)

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어플리케이션

애플리케이션 JEM-ARM200F_NEOARM

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