고속 에칭 건과 트윈 애노드 모노크로메이터를 탑재한 밸런스가 좋은 다기능 광전자 분광계로 저비용화도 실현.
특징
카우프만식 이온총
최대 10nm/min의 속도로 120mm 영역을 에칭할 수 있는 고속 이온총입니다. 이온밀링보다 뛰어난 성능으로 표면세정부터 깊이까지 다양한 목적을 만족시킬 수 있습니다.
팬 포커스 입력 렌 시스템
검체의 위치 결정이나 전자광학계의 조정 등, 분석기 특유의 복잡한 조작 없이 조작성이 높은 시스템을 실현했습니다.
표면 분석을 위한 데이터 분석 소프트웨어
당사의 기존 파형 분리 방법 외에도 실제 스펙트럼을 사용하고 XPS 및 AES의 표준 스펙트럼 라이브러리를 활용하는 새로운 파형 분리 알고리즘이 통합되었습니다. 이를 통해 작업자는 경험과 전문 지식이 필요한 복잡한 매개 변수 설정에서 벗어나 초보자도 복잡한 화학 결합 상태 분석을 수행할 수 있습니다.
제품 사양
| 감도 및 해상도 | |
|---|---|
| Ag3d5/2 깨끗하고 평평한 Ag 샘플에서 측정된 광전자 표준 X선 소스(300W MgKα 여기와 동일) |
|
| 감도(cps) | 분해능(eV) |
| 540,000 | 0.90 |
| 1,800,000 | 1.15 |
| 5,000,000 | 1.8 |
| 단색 X선원(600W AlKα 여기 상당) | |
| 감도(cps) | 65,000 |
| 분해능(eV) | 0.65 |
| 엑스레이 소스 | |
| 표준 X선 소스(Al/Mg 트윈 타겟) | |
| 최대 전력 | 마그네슘 500W 알 600W |
| 에너지 분석기 및 입사 렌즈 시스템 | |
| 입사렌즈 | 3단 원통형 정전기 렌즈 |
| 에너지 스윕 시스템 | 일정한 분석기 에너지 방법 |
| 진공 피난 시스템 | |
| 궁극적 인 압력 | 7 × 10-8Pa 이하 |
| 베이크아웃 메커니즘 | 내부 히터 내장, 자동 제어 |
