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JPS-9030은 조작성을 더욱 향상시키는 새롭게 디자인된 사용자 인터페이스를 갖추고 있으며 세련되고 새로운 현대적이며 세련된 외관 디자인을 선보입니다.

특징

애플리케이션에 최적화된 깊이 프로파일링

새로 개발된 Kaufman 유형 에칭 이온 소스는 1 nm/min ~ 100 nm/min(SiO2 동등한), 광범위한 설정이 가능합니다. 정밀도가 요구되는 측정에서 속도가 필요한 프로세스에 이르기까지 모든 응용 분야에 적합한 깊이 프로파일이 가능합니다. Kaufman-type 에칭 이온 소스를 시료 교환 챔버에 장착하면 측정 챔버의 오염을 방지할 수 있습니다.

새로 개발된 소프트웨어로 훨씬 더 쉽게 사용 가능

스펙서프 버전 2.0은 이제 리본 스타일의 GUI를 통합하여 모든 작업을 마우스로 수행할 수 있는 사용자 친화적인 환경을 제공합니다. JEOL 고유의 자동 정성 분석 기능으로 여러 획득 지점에 대한 정성, 정량 및 화학적 상태 분석을 순차적으로 수행할 수 있습니다.

매우 높은 표면 감도

JPS-9030은 ARXPS(Angle-Resolved XPS) 및 TRXPS(Total Reflection XPS)와 같은 기술을 지원하며 1nm(표준 측정 방법 6nm 이상)의 상단 표면에 대한 초고감도 분석이 가능합니다.

풍부한 옵션

  • 단색 X선 소스

  • 유기 시료에 적합한 아르곤 가스 클러스터 이온 소스

  • 1,000 °C 이상의 온도까지 가능한 적외선 가열 시스템

  • 대기 노출로부터 표본을 보호하기 위한 이송 용기

제품 사양

강렬
(MgKα, 300W 상당)
1,000,000cps 이상(Ag 3d5/2 FWHM에서 1.0eV)
엑스레이 소스 Mg/Al 쌍극
입력 렌즈 시스템 원통형 정전 렌즈
에너지 분석기 정전기 반구형 분석기
에너지 스윕 방식 일정한 분석기 에너지 및 일정한 지연 비율
탐지기 다채널 판
이온 총 카우프만식 이온건
기본 압력 7 × 10-8 Pa 이상
베이크아웃 시스템 내장 히터, 자동 제어

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