JPS-9030은 조작성을 더욱 향상시키는 새롭게 디자인된 사용자 인터페이스를 갖추고 있으며 세련되고 새로운 현대적이며 세련된 외관 디자인을 선보입니다.
기능
애플리케이션에 최적화된 깊이 프로파일링
새로 개발된 Kaufman 유형 에칭 이온 소스는 1 nm/min ~ 100 nm/min(SiO2 동등한), 광범위한 설정이 가능합니다. 정밀도가 요구되는 측정에서 속도가 필요한 프로세스에 이르기까지 모든 응용 분야에 적합한 깊이 프로파일이 가능합니다. Kaufman-type 에칭 이온 소스를 시료 교환 챔버에 장착하면 측정 챔버의 오염을 방지할 수 있습니다.
새로 개발된 소프트웨어로 훨씬 더 쉽게 사용 가능
스펙서프 버전 2.0은 이제 리본 스타일의 GUI를 통합하여 모든 작업을 마우스로 수행할 수 있는 사용자 친화적인 환경을 제공합니다. JEOL 고유의 자동 정성 분석 기능으로 여러 획득 지점에 대한 정성, 정량 및 화학적 상태 분석을 순차적으로 수행할 수 있습니다.
매우 높은 표면 감도
JPS-9030은 ARXPS(Angle-Resolved XPS) 및 TRXPS(Total Reflection XPS)와 같은 기술을 지원하며 1nm(표준 측정 방법 6nm 이상)의 상단 표면에 대한 초고감도 분석이 가능합니다.
풍부한 옵션
단색 X선 소스
유기 시료에 적합한 아르곤 가스 클러스터 이온 소스
1,000 °C 이상의 온도까지 가능한 적외선 가열 시스템
대기 노출로부터 표본을 보호하기 위한 이송 용기
제품 사양
| 강렬
(MgKα, 300W 상당) |
1,000,000cps 이상(Ag 3d5/2 FWHM에서 1.0eV) |
|---|---|
| 엑스레이 소스 | Mg/Al 쌍극 |
| 입력 렌즈 시스템 | 원통형 정전 렌즈 |
| 에너지 분석기 | 정전기 반구형 분석기 |
| 에너지 스윕 방식 | 일정한 분석기 에너지 및 일정한 지연 비율 |
| 탐지기 | 다채널 판 |
| 이온 총 | 카우프만식 이온건 |
| 기본 압력 | 7 × 10-8 Pa 이상 |
| 베이크아웃 시스템 | 내장 히터, 자동 제어 |
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