JBX-3050MV/S는 최대 45nm 노드 설계 규칙의 마스크 및 레티클을 위한 가변형 전자빔 리소그래피 시스템입니다. 첨단 기술로 고속, 고정밀 및 높은 신뢰성을 달성합니다. 이 EB 시스템은 가변형 50kV 전자빔과 스텝 앤 리피트 스테이지를 사용합니다.
기능
JBX-3050MV/S는 45 nm의 디자인 룰을 충족하는 마스크/레티클 제조용 전자빔 리소그래피 시스템입니다. 이 시스템은 첨단 기술을 통해 실현된 고속, 고정밀도, 고신뢰성의 패턴 라이팅을 특징으로 합니다.
제품 사양
| 스티칭 정확도 | ≤ ±3.8 nm |
|---|---|
| 오버레이 정확도 | ≤ ±7 nm |
