JBX-3050MV는 45nm~32nm 노드의 마스크 제작을 위한 가변형 전자빔 리소그래피 시스템입니다. 최첨단 기술로 고속, 고정밀, 고신뢰성을 실현합니다. 이 EB 시스템은 가변형 50kV 전자빔과 단계 및 반복 스테이지를 사용합니다.
특징
JBX-3050MV는 45~32nm의 디자인 규칙을 충족하는 마스크/레티클 제작용 전자빔 리소그래피 시스템입니다. 이 시스템은 하이엔드 기술에 의해 달성된 고속, 고정확도 및 고신뢰성의 패턴 라이팅을 특징으로 합니다.
제품 사양
| 스티칭 정확도 | ≤ ±3.8 nm |
|---|---|
| 오버레이 정확도 | ≤ ±7 nm |
