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JBX-3200MV
전자빔 리소그래피 시스템

JBX-3200MV 전자빔 리소그래피 시스템

JBX-3200MV는 28nm ~ 22/20nm 노드의 마스크 제작을 위한 가변형 전자빔 리소그래피 시스템입니다. 최첨단 기술로 고속, 고정밀, 고신뢰성을 실현합니다. 이 EB 시스템은 가변 모양의 50kV 전자빔과 단계별 반복 시편 스테이지를 사용합니다.

특징

단계별 쓰기 방식의 장점을 살려 쓰기-도스 변조 기능, 오버레이 쓰기 기능 등 다양한 기능을 결합하여 차세대 마스크 패터닝에 필요한 다양한 보정 지원 가능 그리고 레티클.
국내외 캡티브 마스크 매장 및 상인 마스크 매장
(고객 이름은 공개되지 않습니다)

제품 사양

스티칭 정확도 ≤ ±3.5 nm
오버레이 정확도 ≤ ±5 nm

더 많은 정보

과학 기초

메커니즘에 대한 쉬운 설명과
JEOL 제품의 응용

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