JBX-3200MVS는 32nm에서 28nm 노드의 마스크 제작을 위한 가변형 전자빔 리소그래피 시스템입니다. 첨단 기술로 고속, 고정밀, 고신뢰성을 실현했습니다. 이 EB 시스템은 가변형 50kV 전자빔과 스텝 앤 리피트 시편 스테이지를 사용합니다.
기능
이 EB 시스템은 스텝 앤 리피트 쓰기 방법의 장점을 활용하여 쓰기-투입량 변조 기능과 오버레이-쓰기 기능 등의 다양한 기능을 결합하여 레거시 마스크 및 레티클 패터닝에 필요한 다양한 보정을 지원할 수 있습니다.
국내외 캡티브 마스크 매장 및 상인 마스크 매장
(고객 이름은 공개되지 않습니다)
국내외 캡티브 마스크 매장 및 상인 마스크 매장
(고객 이름은 공개되지 않습니다)
제품 사양
| 스티칭 정확도 | ≤ ±3.5 nm |
|---|---|
| 오버레이 정확도 | ≤ ±5 nm |
