플라즈마 소스는 진공 챔버에 통합되어 고밀도 플라즈마를 생성합니다. Plasma Source는 Plasma Assisted Deposition(Ion Plating)으로 사용될 수 있으며 광학 박막, 보호 필름 및 기능 필름의 필름 특성을 향상시킬 수 있습니다. 또한 세척 및 표면 개질과 같은 플라즈마 처리에도 사용할 수 있습니다.
특징
저전압 및 대전류 플라즈마는 기체 분자 및 증발된 입자를 이온화 및 여기시킬 수 있습니다.
반응성 증착이 가능하며 특히 필름 산화 촉진에 적합합니다.
매스 공간에서 고밀도 플라즈마를 생성할 수 있어 넓은 면적에 고속 증착이 가능하다.
기존 진공 챔버에 대한 개조가 가능합니다.
효과
막밀도, 굴절률 향상
환경적으로 안정적인 필름 생산
낮은 파장 이동
낮은 광흡수(피막 산화 촉진)
필름 밀착력 향상
표면 거칠기 개선
필름 스트레스 제어
제품 사양
최대 플라즈마 출력 : 6kW(160V, 38A)
작동 압력: 1×10-2 1×10까지-1파(아르,오2, N2 대기)
토출가스(Ar) : 8~20mL/min
냉각수 : 7~10L/min
빔 방식 : 반사빔과 조사빔 중에서 선택 가능
카탈로그 다운로드
BS-80011BPG 고밀도 플라즈마용 고출력 플라즈마 소스
관련 상품
관련 상품
BS-80020CPPS 저온 공정용 플라즈마 소스
이 플라즈마 소스는 플라스틱 기판/필름과 같은 저온 공정에 특화되어 있습니다. 진공 증착된 필름의 필름 품질은 기판의 온도 상승을 낮추면서 플라즈마 보조 증착에 의해 향상될 수 있다. 또한 세척 및 표면 개질과 같은 플라즈마 처리에도 사용할 수 있습니다.
