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JIB-4000 집중 이온 빔 밀링 및 이미징 시스템

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지브-4000

JIB-4000은 고성능 이온 컬럼을 특징으로 하는 집중 이온 빔 처리 및 관찰 시스템(단일 빔 FIB 시스템)입니다. 가속된 Ga 이온 빔은 시료 표면의 SIM 이미지 관찰, 밀링 및 탄소 또는 텅스텐과 같은 물질의 증착을 가능하게 하기 위해 시료에 초점을 맞추고 적용됩니다. TEM 이미징을 위한 시료 내부 또는 박막 시편을 관찰하기 위해 단면 시료를 제작하는 것도 가능합니다. SEM 이미지와 비교할 때 SIM 이미지는 결정 방향의 차이로 인해 눈에 띄는 채널링 대비를 보여줍니다. 다층 코팅 및 금속 구조의 단면을 평가하는 데 특히 적합합니다.

특징

고출력 FIB 컬럼

JIB-4000은 최대 이온 빔 전류가 60nA인 고출력 FIB 컬럼을 통합하여 빠른 단면 밀링을 가능하게 합니다. 특히 대면적 가공 시 대전류 고속 밀링에 유리하며, 100 µm 이상의 크기에서도 관찰용 단면을 쉽게 제작할 수 있습니다.

사용자 친화적인 FIB

JIB-4000은 High-Power FIB 컬럼의 탁월한 작동성을 제공합니다. 장비의 디자인 컨셉은 사용하기 쉬운 FIB 시스템을 만들기 위해 디자인된 GUI뿐만 아니라 외관과 함께 사용자 친화성입니다. FIB 전문가가 아닌 사용자도 쉽게 조작할 수 있는 장비입니다. 기기의 크기는 업계 최소형으로 콤팩트하여 더욱 다양한 위치에 설치할 수 있습니다.

트윈 스테이지

JIB-4000의 표준 구성에는 대량 샘플을 수용할 수 있는 대량 샘플 모터 스테이지가 포함됩니다. 홀더에 TEM 칩을 직접 삽입할 수 있는 사이드 엔트리 고니오미터 스테이지를 추가하는 것도 가능합니다. 벌크 샘플 모터 스테이지를 사용하면 20mm x 20mm 벌크 샘플의 전체 표면을 관찰할 수 있습니다. 에어 록 챔버를 통해 시료 교환을 신속하게 수행할 수 있습니다. 사이드 엔트리 고니오미터 스테이지는 JEOL TEM 시스템에 사용되는 것과 동일하므로 칩 온 홀더를 JEOL TEM 시스템과 함께 사용할 수 있어 FIB 밀링과 TEM 관찰 사이를 쉽게 번갈아 가며 사용할 수 있습니다.

풍부한 첨부 파일

회로 수정 응용 프로그램에 유용한 CAD 내비게이션 시스템과 특수 형상 밀링에 효과적인 벡터 스캔 시스템을 포함하여 JIB-4000의 작동을 지원하는 다양한 부착물이 있습니다. JIB-4000에 적절한 부착물을 추가함으로써 시스템은 샘플 준비 이외의 애플리케이션을 지원할 수 있습니다.

제품 사양

FIB

이온 소스 Ga 액체 금속 이온 소스
가속 전압 1 ~ 30kV(5kV 단계)
확대 ×60(필드 검색용)
×200~×300,000
이미지 해상도 5nm(30kV에서)
빔 전류 최대 60nA(30kV에서)
이동식 조리개 12단(모터 구동)
밀링 중 이온 빔 모양 직사각형, 선 및 점
표본 단계 벌크 시편 5축 고니오미터 스테이지
X:±11mm
Y:±15mm
Z:0.5~-23mm
T:-5 ~ +60°
오른쪽:360°
최대 표본 크기 28mm 직경 (높이 13mm)/직경 50mm(높이 2mm)

선택적 첨부 파일

  • 가스 분사 시스템 2 (IB-02100GIS2)

  • 탄소 증착 카트리지(IB-52110CDC2)

  • 텅스텐 증착 카트리지(IB-52120WDC2)

  • 백금 증착 카트리지(IB-52130WDC2)

  • 사이드 엔트리 고니오미터 스테이지(IB-01040SEG)

  • 프로브 전류 검출기(IB-04010PCD)

  • 오퍼레이션 패널(IB-05010OP)

  • 스테이지 내비게이션 시스템(IB-01200SNS)

  • FIB 팁온 홀더(EM-02210)

  • FIB 벌크 시료 홀더(EM-02220)

  • FIB 벌크 시료 홀더 1(EM-02560FBSH1)

  • FIB 벌크 시료 홀더 2(EM-02570FBSH2)

  • FE-SEM 시편 홀더 어댑터(EM-02580FSHA)

  • 셔틀 리테이너(EM-02280)

  • 분위기 픽업 시스템 (EM-02230)

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