회절 대비

결정질 시료에서 산란된 전자는 산란각을 가지고 연속적으로 분포하는 것이 아니라 회절파로서 불연속적으로 분포한다. 회절 콘트라스트란 회절 조건이 시료의 면적에 따라 변할 때 형성되는 전자현미경 상의 강도 변화를 의미한다. 명시야 이미지(투과된 파동에 의해 형성됨)에서 회절이 일어나는 영역은 이미지 강도를 잃어 어두워집니다. (회절파에 의해 형성된) 암시야 이미지에서 해당 영역은 이미지 강도를 얻어 밝아집니다.


가속 전압 200kV에서 촬영한 다결정 Si(반도체 배선)의 TEM 이미지 및 회절 패턴.

(a) 명 시야 TEM 이미지. 표본은 서로 다른 결정 방향을 나타내는 수 10 nm에서 수 100 nm 크기의 많은 결정 입자로 구성됩니다. 빨간색 허용 및 녹색 화살표로 표시된 결정 입자에서 회절파는 대물렌즈 조리개에 의해 차단됩니다. 결과적으로 입자가 어두운 대비로 관찰됩니다.

(b) (a)의 동일한 영역에서 찍은 암시야 TEM 이미지. (a)에서 녹색 화살표로 표시된 결정 입자의 회절파를 얻을 수 있도록 대물 구경을 삽입합니다. 그 결과 입자가 밝은 대비로 관찰됩니다.

(c) 회절 패턴. 표본이 다결정이기 때문에 Debye-Scherrer 고리가 관찰됩니다. 녹색 원은 (a)와 (b)에서 녹색 화살표로 표시된 결정 입자의 회절파를 둘러쌉니다.
 

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