특징
초고온, 고순도, 고화학반응장의 RF유도플라즈마를 이용한 다목적 실험 또는 미량생산 시스템.
주요 응용 분야는 나노분말 합성 및 미세 분말의 표면 처리입니다.
조밀한 XNUMX개 단위 체계, 작은 발자국, 쉬운 임명 및 쉬운 가동.
특징
아르곤 기반 열 플라즈마.
산소, 질소 및 수소와 같은 다른 가스를 도입하여 혼합 플라즈마를 생성할 수 있습니다.
미세 입자와 같은 원료를 플라즈마에 도입하여 증발 또는 용융, 화학 반응 또는 개질이 순간적으로 이루어집니다.
단일 원소 나노입자 뿐만 아니라 복합 나노입자까지 나노물질을 생성할 수 있습니다.
비소모성 전극 및 기내 플라즈마 공정에서 고순도 재료 합성.
나노분말 합성의 예
약 2g의 미세분말로부터 니켈 나노분말 합성 3~XNUMX미크론
약 1g의 미세분말로부터 실리콘 나노분말 합성 XNUMX미크론
혼합된 여러 세라믹에서 순간 증발에 의한 다원소 세라믹의 나노분말 합성
질화물 합성의 예
실리콘 미분말을 질화하여 Si3N4 나노분말 합성 5미크론
복합 분말의 예
구리 나노 입자가 텅스텐 입자 주변에 증착됨
제품 사양
RF 전력 : 최대 6kW
아르곤 기반 RF 유도 플라즈마 생성
작동 압력 : 약. 10~70kPa
나노분말 합성 실험을 위한 대략적인 적응증
원료분말 : 금속 또는 세라믹의 무기물
분말 크기 : 약. 1~10μｍ *1 *2
분말 이송 속도 : 0.1 ~ 1g/min *1 *2
분말의 종류/크기/무게/모양/상태에 따라 다름.
10μm 이상의 분말은 표면 개질 처리에 사용할 수 있으며,
표면 화학 반응 및 구상화.
그리고 속도는 1g/min 이상일 수 있습니다.
유틸리티
| 입력 전원 | Φ3 AC200V±5% 약 50A |
|---|---|
| 냉각수 | 약. 총 60L/분
수질 : 수돗물 정도 입구압력 : 0.3~0.4MPa 출구압력 : 0.1MPa 이하 |
| 플라즈마용 가스 | Ar=최대 50L/분 *3
O2=최대 5L/min (옵션사양) N2=최대 5L/min (옵션사양) H2 *4 캐리어 가스=최대. 10L/min (옵션사양) |
| 육로 | 10Ω 이하 |
실제 사용: 약. 30~40L/분
안전 조치에 대한 고려가 필요합니다.
외부 치수
