이 CRYO-FIB-SEM 시스템에는 액체질소 냉각 단계와 냉동 검체용 극저온 검체 이송 메커니즘이 통합되어 있어 바이오폴리머와 같은 TEM 검체 준비가 가능합니다.
시편 이송 메커니즘에는 스퍼터링 코팅 기능이 내장되어 있습니다. 따라서 이 CRYO-FIB-SEM 시스템만으로도 냉동 시편에서 전도성 코팅, 보호막 형성, FIB 처리 등 일련의 공정을 수행하여 TEM 시편을 만들 수 있습니다.
또한 JEOL의 CRYO ARM™ 카트리지를 사용하면 TEM 시편 준비 후 CRYO ARM™으로 직접 시편을 이송하는 것이 더욱 쉬워집니다.
기능
CRYO ARM™ 카트리지를 사용한 Cryo 표본 이동
검체 메쉬를 카트리지에 부착한 후 더 이상 핀셋을 사용하여 검체 메쉬를 다룰 필요가 없어 처리량이 높은 검체 이송이 가능합니다.
매우 안정적인 냉각 단계
열전도율 냉각 스테이지는 냉각 과정으로 인한 스테이지 드리프트 및 진동을 줄이고 안정적인 TEM 시편 준비를 실현합니다.
JEOL의 독창적인 오염 방지 장치
새로 개발된 오염 방지 장치를 사용하면 시료 챔버의 얼음 오염이 줄어듭니다. 많은 양의 검체를 장기간 준비하는 동안에도 이 장치는 얼음 오염을 최대한 억제합니다.
CRYO ARM™ 카트리지를 사용하는 극저온-CLEM 작업 흐름은 Linkam Scientific Instruments*에서 제조한 극저온 스테이지와 Nikon Corporation*에서 제조한 광학 현미경을 사용하여 구성할 수 있습니다. 각 장비의 스테이지 좌표를 연결할 수 있으므로 장비 간 표본 이동 중에 표본의 방향과 위치를 항상 식별할 수 있습니다.
제품 사양
SEM | |
---|---|
착륙 전압 | 0.1~30.0kV |
빔 전류 | 1pA ~ 300nA |
이미지 해상도 | 1.6nm(15kV、WD 4mm) 3.0nm(2kV、WD 8.5mm) |
FIB | |
---|---|
가속 전압 | 1.0~30.0kV |
빔 전류 | 1pA ~ 90nA |
이미지 해상도 | 4.0nm(30kV) |
냉각 단계 | |
---|---|
냉각 방식 | 열전도율 냉각 |
냉각수 | 액체 질소 |
냉각 온도 | 스테이지: -160°C 이하 오염 방지 장치: -180°C 이하 |
냉각 유지 시간 | 13 시간 이상 |
이동 범위 | X:20mm |
Y:30mm | |
Z:4~40.5mm | |
T:-40~70° | |
R:360° 이상(-190~190°) |
표준 구성
전도성 코팅 | Pt 스퍼터 코팅 시스템은 시편 교환 챔버에 내장되어 있습니다. |
---|---|
오염 방지 장치 | SEM 컬럼과 시료 챔버에 통합됨 |
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