JEOL은 8500년 세계 최초의 FE-EPMA인 JXA-2003F를 상용화했습니다. 높은 평가를 받은 이 FE-EPMA는 금속, 재료 및 지질학 등 다양한 분야에서 산업계와 학계에서 오랫동안 사용되어 왔습니다. JXA-8530FPlus는 향상된 분석 및 이미징 기능과 함께 제공되는 XNUMX세대 FE-EPMA입니다. 새로운 소프트웨어와 결합된 In-Lens Schottky 전계 방출 전자총은 높은 안정성을 유지하면서 더 높은 처리량을 제공하므로 더 넓은 범위의 EPMA 애플리케이션을 더 높은 해상도로 달성할 수 있습니다.
특징
인렌즈 쇼트키 플러스 FEG EPMA 버전
각 전류 밀도가 최적화된 In-Lens Schottky Plus FEG EPMA 버전은 2μA 이상의 큰 프로브 전류로 분석할 수 있습니다. 정확한 수렴각을 자동으로 조정하여 분석 조건에서도 XNUMX차 전자 이미지의 해상도를 향상시켰습니다.
고급 소프트웨어
다음을 포함하여 다양한 Microsoft Windows® 기반 고급 애플리케이션 시스템을 사용할 수 있습니다.
최대 5개의 분광기에서 수집한 데이터를 추가하는 등 미량 원소를 보다 간단하고 최적화된 분석을 위한 미량 원소 분석 프로그램,
주요 구성 요소를 기반으로 위상 맵을 자동으로 생성하는 위상 맵 메이커,
표면이 불규칙한 시편의 자동 WDS 분석을 위한 비평면 분석 프로그램. 이는 스테이지의 큰 Z 이동(7.5mm)으로 인해 가능합니다.
주의 사항:Windows는 미국 및 기타 국가에서 Microsoft Corporation의 등록 상표입니다.
유연한 WDS 구성
다양한 X선 분광계(WDS)를 선택할 수 있습니다. Rowland 원 반경 140mm(140R) 또는 100mm(100R), 2결정 또는 4결정 구성 및 표준 또는 대형 결정의 혼합.
2R용 XCE(4 xtl) X-선 분광계, FCS(2 xtl) X-선 분광계 및 L(대형 140 xtl) X-선 분광계는 분광 범위가 넓고 우수한 파장 분해능과 피크-백그라운드를 제공합니다. 비율. 100R의 H Type X-ray Spectrometer는 높은 X-ray 강도를 제공합니다. 사용자는 요구 사항에 따라 이러한 분광계 중에서 선택할 수 있습니다.
결합된 WDS/EDS 시스템
JXA-8530FPlus는 JEOL의 30mm2 실리콘 드리프트 검출기(SDD).
현장 가변 조리개와 함께 높은 카운트율 SDD는 WDS 조건에서 EDS 분석을 가능하게 합니다. EDS 스펙트럼, 맵 및 라인 스캔은 WDS 데이터와 동시에 수집할 수 있습니다.
다목적 챔버
JXA-8530FPlus에는 확장성이 뛰어난 시료 챔버와 시료 교환 챔버가 장착되어 있어 챔버에 다양한 옵션 부착물을 통합할 수 있습니다.
이들은 다음을 포함한다 :
전자 후방 산란 회절 시스템(EBSD)
틸팅 회전 서브 스테이지
Cathodoluminescence 검출기(전정색, 단색, 풀 컬러 하이퍼스펙트럼)
연 X선 방출 분광계
공기 절연 이송 용기
High Etching Rate Ion Source, in-situ cleaner 등
강력하고 깨끗한 진공 시스템
JXA-8530FPlus에는 XNUMX개의 자기 부상 터보 분자 펌프를 포함하여 강력하고 깨끗한 진공 시스템이 사용됩니다. 또한 전자광학칼럼에는 XNUMX단 중간챔버를 마련하여 차동펌핑에 의해 전자총챔버 내부를 고진공으로 유지한다.
선택 사항인 스크롤 펌프와 액체 질소 콜드 핑거를 추가하면 궁극의 오일 프리 진공 시스템이 만들어집니다.
소프트 X선 방출 분광계(SXES)
초고해상도 연X선 방출 분석기는 도호쿠 대학(토호쿠 대학 M. Terauchi 교수)과 JEOL Ltd. 등 첨단 재료 융합 연구 연구소가 공동으로 개발했습니다.
가변 라인 간격(VLS) 격자는 동시 감지(EDS와 유사)를 가능하게 하고 고감도 CCD로 Li-K 및 BK 스펙트럼 감지를 허용합니다. 이 분광계는 매우 높은 에너지 분해능을 달성하여 상세한 화학 결합 상태 분석을 가능하게 합니다.
miXcroscopy(상관 현미경)
miXcroscopy 연결된 광학 및 주사 전자 현미경 시스템
광학 현미경에 있는 XY 스테이지 좌표와 함께 관심 영역을 기록하고 이미징 및 분석을 위해 원하는 위치로 탐색하기 위해 EPMA로 전송할 수 있습니다.
제품 사양
| 원소 분석 범위 | WDS: (Be) B에서 U로, EDS: B에서 U로 |
|---|---|
| X선 분광계 범위 | WDS 분광 범위: 0.087~9.3nm
EDS 에너지 범위: 20keV |
| X선 분광계의 수 | WDS: 1~5 선택 가능, EDS: 1 |
| 최대 표본 크기 | 100mm × 100mm × 50mm(높이) |
| 가속 전압 | 1~30kV(0.1kV 단계) |
| 프로브 전류 안정성 | ±0.3%/h |
| XNUMX차 전자 이미지 해상도 | WD 3mm에서 11nm, 30kV |
| 20kV, 10nA, WD 10mm에서 11nm
50kV, 10nA, WD 100mm에서 11nm |
|
| 확대 | ｘ40~ｘ300,000(WD 11mm) |
| 스캐닝 이미지 픽셀 해상도 | 최대 5,120 ｘ 3,840 |
카탈로그 다운로드
JXA-8530FPlus 전계 방출 전자 프로브 마이크로 분석기
