Oxford Instruments의 OmniProbe 350은 높은 정밀도와 원활한 작동을 특징으로 하는 나노 매니퓰레이터입니다.
JIB-4700F Multi Beam System에 부착하면 SEM, FIB로 관찰하면서 리프트아웃 작업이 가능합니다.
일련의 TEM 시편 준비 프로세스는 JIB-4700F의 시편 챔버 내에서 완료될 수 있습니다.
특징
직관적인 프로브 작동
프로브 동작은 SEM과 FIB의 관찰 방향에 의해 정의된 좌표로 제어할 수 있습니다.우수한 선형성
모든 방향으로 직선으로 움직이는 프로브는 트렌치 측면에 부딪히지 않고 안전하게 들어 올릴 수 있습니다.정확한 이동(위치 저장 포함)
사용자는 한 번의 클릭으로 프로브를 완전히 수축된 위치에서 작업 위치로 이동할 수 있습니다. 또한 사용자가 정의한 작업 위치를 저장할 수 있으며 저장된 위치로 프로브를 불러올 수 있습니다.낮은 소음, 낮은 드리프트
유휴 상태일 때 진동과 드리프트를 최소화하여 리프트 아웃 시 위험을 줄입니다.현장 팁 변경
전자현미경의 챔버를 환기시키지 않고 단시간에 프로브 바늘을 교체할 수 있습니다.
OmniProbe 350을 사용한 TEM 시편 준비 흐름
1. 시편 블록 준비
3. 트렌치에서 들어낸 표본 블록
5. 그리드에 부착
2. 검체에 연결된 OmniProbe
4. 그리드로 전송
6. 박막 시편 준비
관련 링크
제품
제품 사양
| 주요 부분 | 스트로크 X:±2mm, Y:±1mm, Z:44mm |
|---|---|
| 속도 최소:50nm/s, 최대:500μm/s | |
| 최소 스텝 이동 거리 50nm 이하 | |
| 제어 섹션 | 컨트롤러, PC, 모니터, 소프트웨어 |
| 필수 유틸리티 | AC 90 -264V, 47 - 63Hz x 1 |
| 적용 계기 |
