특징
최대 3W 피크 전력
타이트 포커싱(<40 µm FWHM)
µs에서 s까지의 시간 프로파일
초점 위치, 레이저 출력, 펄스 지속 시간 원격 제어
초소형 설치 공간
표본 홀더 선택의 자유를 위한 희생 없음
루미너리 마이크로는 C충격 S표본 P뜨거운 여기 SJEOL TEM용 시스템(CPXS).
이것은 변조 레이저, 소형 광학 전달 시스템(µODS), 입구 포트 및 거울로 구성됩니다. 이 추가 기능을 사용하여 사용자는 레이저 출력을 TEM 샘플로 향하게 하고 초점을 맞출 수 있습니다. 현장.
Luminary Micro는 40 µm FWHM 미만의 초점 크기, 최대 3 W까지 조정 가능한 피크 전력 및 몇 마이크로초에서 몇 초에 이르는 변조된 펄스 폭 덕분에 표본에서 다양한 반응과 동적 프로세스를 유도할 수 있습니다. Luminary Micro를 사용하여 사용자는 레이저 유도 현상을 연구할 수 있습니다. 현장 빠른 카메라를 사용합니다.
IDES/JEOL EDM 고속 셔터 및/또는 상대성 서브프레이밍 시스템과 결합된 Luminary Micro를 사용하면 사용자가 마이크로초 시간 척도에서 펌프 프로브 방법을 사용하여 시간 분해 연구를 수행할 수 있습니다. 설치 공간이 매우 작고 TEM 분해능에 영향을 미치지 않고 쉽게 설치할 수 있지만 시편 홀더 선택의 자유를 희생하지 않습니다.
제품 사양
| 매개 변수 | 주의 | |
|---|---|---|
| 파장 | 577nm(표준) | 요청 시 532, 642 또는 780nm 사용 가능 ※ |
| 최고 출력 | 3nm에서 577W | 2, 532 또는 642nm에서 780W |
| 상승 시간 상수 | 12.4 μs | |
| 하강 시간 상수 | 5.1 μs | |
| 초점 거리 | 300kV TEM에서 300mm 250kV TEM에서 200mm |
|
| 초점 크기(FWHM) | 40kV TEM에서 <300µm 33kV TEM에서 <200µm |
구매 주문 시 선택됩니다.
적용 가능한 모델: JEM-ARM300F2, NEOARM*1, JEM-F200, JEM-2100F*2, JEM-2100플러스*2
Luminary Micro는 프로브 Cs 보정기가 구성된 경우에만 사용할 수 있습니다.
고니오미터 커버가 구성된 경우 Luminary Micro를 사용할 수 없습니다.
갤러리 (Gallery)
레이저 조사에 의한 탄소나노물질의 성장과정
투과 전자 현미경(TEM)에서 성장하는 탄소 나노튜브와 양파 모양의 탄소 나노 구조의 원자 해상도 현장 동영상. 구조는 탄소 필름과 철 나노입자로 만들어진 샘플의 레이저 조사에 의해 형성되었습니다.
이 실험은 냉전계 방출 건 JEM-ARM300F와 JEOL 자회사 Integrated Dynamic Electron Solutions, Inc.가 설계한 새로운 시스템인 Luminary Micro가 장착된 JEOL 300kV 투과 전자 현미경을 사용하여 수행되었습니다. 고성능 이미징 장비와 정밀하게 제어되는 신속한 국부 조명으로 인한 감소된 샘플 움직임의 조합은 현장 실험을 위한 뛰어난 공간 분해능을 가능하게 합니다.
(Ryousuke Senga, Electron Microscopy Group, Nanomaterials Research Institute, Advanced Industrial Science and Technology (AIST) 및 Kazutomo Suenaga 교수, Nanostructures and Functions 나노특성화과, Nanoscience and Nanotechnology Center, The Institute of Scientific and Industrial Research ( ISIR: SANKEN), 오사카 대학)
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